| 主权项 |
1.一种空气面入射型光碟(air-incident optical disk)的制作方法,该方法包含有下列步骤:提供一基板;于该基板上形成一黏合层;于该黏合层上形成上反射层;以及于该光碟表面形成一保护层;其中该黏合层系用以增加该基板与反射层的黏合力。2.如申请专利范围第1项之方法,其中形成该黏合层及该保护层的方法系为一物理沈积制程或一化学沈积制程。3.如申请专利范围第2项之方法,其中该物理沈积制程系为一物理气相沈积(physicalvapor deposition, PVD)制程、一溅镀(sputtering deposition)制程或一旋转镀膜(spin-coating)制程。4.如申请专利范围第2项之方法,其中该化学沈积制程系为一化学气相沈积(chemical vapor deposition, CVD)制程或一电镀(electroplating)制程。5.如申请专利范围第1项之方法,其中该基板表面包含有一微刮痕(micro-scratch)结构,用以增加该黏合层于该基板表面之附着力,且该基板另包含有一开口设于该基板的中心。6.如申请专利范围第1项之方法,其中形成该黏合层的材料系包含有氮化矽(silicon nitride, SiNx)、氧化矽(silicon oxide, SiOx)、硫化锌-二氧化矽(ZnS-SiO2)、氧化钛(Titanium oxide, TiOx)或碳化物(carbide)。7.如申请专利范围第6项之方法,其中形成该反射层的材料系包含有铝(aluminum, Al)、铜(copper, Cu)、银(silver, Ag)、金(gold, Au)或铂(platinum, Pt)金属。8.如申请专利范围第7项之方法,其中形成该保护层的材料系包含有钻石薄膜(DLC)、金属氮化物(metal nitride, AxN1-x)、金属氧化物(metal oxide, AxO1-x)、氮化矽(Si1-xNx)、氧化矽(SiOx)、硫化锌-二氧化矽(ZnS-SiO2)、氧化钛(TiOx)或碳化物(carbide)。9.如申请专利范围第1项之方法,其中在形成该反射层之后,该方法会另于该反射层上形成一记录层。10.如申请专利范围第9项之方法,其中形成该记录层的材料系包含有一有机染料高分子(organic dye polymer)或一相变材料(phase change materials)。11.如申请专利范围第10项之方法,其中形成该相变材料的材料系包含有碲(tellurium, Te)、锗(germanium, Ge)、锑(stibium, Sb)合金系列或铟(indium, In)、银(silver, Ag)锑(Sb)、碲(Te)合金。12.如申请专利范围第1项之方法,其中在形成该反射层之后,该方法另包含有下列步骤:于该反射层上形成一第一介电层;于该第一介电层上形成一记录层;以及于该记录层上形成一第二介电层。13.如申请专利范围第12项之方法,其中形成该记录层的材料系包含有一有机染料高分子、一相变材料或一磁光材料(optical-magneto materials)。14.如申请专利范围第13项之方法,其中形成该相变化材料的材料系包含有碲(Te)、锗(Ge)和锑(Sb)合金系列。15.如申请专利范围第13项之方法,其中形成该相变化材料系为铟(In)、银(Ag)、锑(Sb)和碲(Te)合金系列。16.如申请专利范围第13项之方法,其中形成该磁光材料的材料系包含有铁(iron, Fe)、铽(terbium, Tb)、镝(dysprosium, Dy)、铋(bismuth, Bi)和钴(cobalt, Co)合金系列。17.如申请专利范围第13项之方法,其中形成该磁光材料的材料系包含有铂(Pt)和钴(Co)合金系列。18.如申请专利范围第13项之方法,其中形成该第一介电层以及该第二介电层的材料系包含有氮化矽(SiNx)、氧化矽(SiOx)、硫化锌-二氧化矽(ZnS-SiO2)、氧化钛(TiOx)或碳化物(carbide)。19.一种空气面入射型光碟片,包括:一基板;一黏合层,系设置于该基板上;一反射层,形成于该黏合层上;以及一保护层,生成于该光碟片之表面;其中该黏合层系用以增加该基板与该反射层的黏合力,该保护层系用以防止该光碟片于读取过程中受到光学读取头的碰撞所导致之损毁。20.如申请专利范围第19项所述之光碟片,其中该基板表面包含有一微刮痕结构,用以增加该黏合层于该基板表面之附着力,且该基板另包含有一开口设于该基板的中心。21.如申请专利范围第20项所述之光碟片,其中形成该黏合层的材料系包含有氮化矽(SiNx)、氧化矽(SiOx)、硫化锌-二氧化矽(ZnS-SiO2)、氧化钛(TiOx)或碳化物(carbide)。22.如申请专利范围第21项所述之光碟片,其中形成该反射层的材料系包含有铝(Al)、铜(Cu)、银(Ag)、金(Au)或铂(Pt)金属。23.如申请专利范围第22项所述之光碟片,其中形成该保护层的材料系包含有石薄膜(DLC)、金属氮化物(AxN1-x)、金属氧化物(AxO1-x)、氮化矽(Si1-xNx)、氧化矽(SiOx)、硫化锌-二氧化矽(ZnS-SiO2)、氧化钛(TiOx)或碳化物(carbide)。24.如申请专利范围第19项所述之光碟片,其中在该反射层之上另包含有一记录层。25.如申请专利范围第24项所述之光碟片,其中形成该记录层的材料系包含有一有机染料高分子或一相变材料所构成。26.如申请专利范围第25项所述之光碟片,其中形成该相变材料的材料系包含有碲(Te)、锗(Ce)、锑(Sb)合金系列或铟(In)、银(Ag)、锑(Sb)、碲(Te)合金系列。27.如申请专利范围第19项所述之光碟片,其中在该反射层之上更包含有:一第一介电层,设置于该反射层之上;一记录层,设置于该第一介电层之上;以及一第二介电层,设置于该记录层之上。28.如申请专利范围第27项所述之光碟片,其中形成该记录层的材料系包含有一有机染料高分子、一相变材料或一磁光材料。29.如申请专利范围第28项所述之光碟片,其中形成该相变化材料的材料系包含有碲(Te)、锗(Ge)和锑(Sb)合金系列。30.如申请专利范围第28项所述之光碟片,其中形成该相变化材料的材料系包含有铟(In)、银(Ag)、锑(Sb)和碲(Te)合金系列。31.如申请专利范围第28项所述之光碟片,其中形成该磁光材料的材料系包含有铁(Fe)、铽(Tb)、镝(Dy)、铋(Bi)和钴(Co)合金系列。32.如申请专利范围第28项所述之光碟片,其中形成该磁光材料的材料系包含有铂(Pt)和钴(Co)合金系列。33.如申请专利范围第27项所述之光碟片,其中形成该第一介电层以及该第二介电层的材料系包含有氮化矽(SiNx)、氧化矽(SiOx)、硫化锌-二氧化矽(ZnS-SiO2)、氧化钛(TiOx)或碳化物(carbide)。图式简单说明:第一图习知制作空气面入射型光碟的方法示意图。第二图至第四图为本发明制作空气面入射唯读型光碟的方法示意图。第五图与第六图为本发明制作空气面入射写一次型光碟的方法示意图。第七图为本发明制作空气面入射可擦拭型光碟的方法示意图。 |
