发明名称 光记录媒介及使用彼之方法
摘要 一种光记录媒介,包括基材、及至少一记录层和顶层无机层,依此次序形成于该基材上,其中记录及复制系藉着由位于该顶层无机层侧面之光学头施加光束于该记录媒介而进行,其中该顶层无机层之结构系使得当将用以记录或复制之光束施加于该记录媒介时,存在于该光记录媒介之顶面的外来物质不蒸发,较佳为A)该无机顶层系包括第一介电层,其厚度系当用于记录之光束施加于该记录媒介时,该记录媒介顶面之温度不曾增加至使得位于该光记录媒介顶面上之外来物质蒸发之位准;或B)该无机顶层系包括位于该记录层上而依序为第二介电层、金属层及第三介电层之层压结构,当使用于记录之光束施加于该记录媒介峙,该记录媒介之顶面的温度不曾增加至使得位于该光记录媒介顶面上之外来物质蒸发之位准。
申请公布号 TW472251 申请公布日期 2002.01.11
申请号 TW089107394 申请日期 2000.04.19
申请人 帝人股份有限公司 发明人 江崇;千叶洁
分类号 G11B7/24 主分类号 G11B7/24
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种光学记录媒介,包括一基材、及依此次序形成于该基材上之至少一记录层及顶无机层,其中记录及复制系藉着自位于该顶无机层侧面上之光学头施加光束于该记录媒介而进行,其特征为该顶无机层之结构系使得存在于该光学记录媒介之顶面上的外来物质在供记录用之光束施加于该记录媒介时不致蒸发。2.如申请专利范围第1项之光学记录媒介,其中该顶无机层系具有下面两特色中之一者:A)该顶无机层系包括第一介电层,其具有一厚度以使,当供记录用之光束施加于该记录媒介时,该记录媒介之顶面的温度不会增加至使得存在于该光学记录媒介顶面上之外来物质蒸发之程度;及B)该顶无机层系包括依序位于该记录层上之第二介电层、金属层及第三介电层的层压结构,藉此当供记录用之光束施加于该记录媒介时,该记录媒介之顶面的温度不会增加至使得位于该光学记录媒介顶面上之外来物质蒸发之程度。3.如申请专利范围第2项之光学记录媒介,其中该外来物质主要系为水。4.如申请专利范围第2项之光学记录媒介,其中当供记录或复制用之光束施加于该记录媒介时,该记录媒介之顶面不会增加至高于150℃。5.如申请专利范围第2项之光学记录媒介,其另外包括介于该记录层与该基材间之反射层。6.如申请专利范围第5项之光学记录媒介,其中该基材系由塑料制得,而该光学记录媒介另外包括于该基材与该反射层间之绝热层。7.如申请专利范围第6项之光学记录媒介,其另外包括介于该记录层与该反射层间之第四介电层。8.如申请专利范围第7项之光学记录媒介,其另外包括介于该记录层与该第四介电层间之障壁层或结晶加速层。9.如申请专利范围第2项之光学记录媒介,其另外包括介于该记录层与该顶无机层间之障壁层或结晶加速层。10.如申请专利范围第2项之光学记录媒介,其中该记录层系为相变化型记录层。11.如申请专利范围第2项之光学记录媒介,其中介于与该记录媒介结合使用之该光学头与该记录媒介间之距离系不大于1微米。12.如申请专利范围第2项之光学记录媒介,其中该与该记录媒介结合使用之光学头系为飞行光学头。13.如申请专利范围第2项之光学记录媒介,其中该顶无机层系满足该特色A)。14.如申请专利范围第13项之光学记录媒介,其中当该第一介电层厚度因光学干扰而增加时,该第一介电层系具有大于该光学记录媒介反射性第二尖峰区最小厚度之厚度。15.如申请专利范围第13项之光学记录媒介,其中该第一介电层系具有小于1微米之厚度。16.如申请专利范围第13项之光学记录媒介,其中该第一介电层系为于该记录或复制光束波长下具有不小于1.70之折射率的无机材料层。17.如申请专利范围第13项之光学记录媒介,其中该第一介电层系包括依序位于该记录层上之第五及第六介电层,该第六层系具有高于第五介电层之硬度。18.如申请专利范围第2项之光学记录媒介,其中该顶无机层系满足该特色B)。19.如申请专利范围第18项之光学记录媒介,其中该金属层系由包含至少一种Au,Ag,Cu及Al主要成分之材料制得,厚度为5至50毫微米。20.如申请专利范围第18项之光学记录媒介,其中该第二及第三介电层系为在记录或复制光束波长下具有不低于1.70之折射率的无机材料层。21.如申请专利范围第18项之光学记录媒介,其中该第三介电层系具有高于该第二介电层之硬度。22.如申请专利范围第2项之光学记录媒介,其中该记录媒介系具有该记录媒介标准所需之反射性。23.如申请专利范围第22项之光学记录媒介,其中该标准系为ISO标准。24.如申请专利范围第22项之光学记录媒介,其中该记录媒介系具有介于资料记录及抹除状态间之反射性的20至50百分比范围内之反射性。25.一种记录及复制光学记录媒介之方法:提供光学记录媒介,其包括基材及依序形成于该基材上之至少一记录层及顶无机层,及藉着由位于该顶无机层侧面上之光学头施加光束于该记录媒介,以进行记录及复制,其中该顶无机层之结构系使得存在于该光学记录媒介顶面上之外来物质不会在将记录用光束施加于该记录媒介时蒸发。26.如申请专利范围第25项之方法,其中该顶无机层系具有得到以下两特色中之一:A)该顶无机层系包括第一介电层,具有一厚度,当用于记录之光束施加于该记录媒介时,该记录媒介之顶面的温度不会增加至使得存在于该光学记录媒介顶面上之外来物质蒸发之程度;及B)该顶无机层系包括依序位于该记录层上之第二介电层、金属层及第三介电层的层压结构,而于该记录媒介上施加记录用光束时,该记录媒介之顶面温度不会增加至使得位于该光学记录媒介顶面上之外来物质蒸发。27.如申请专利范围第26项之方法,其中该外来物质主要系为水。28.如申请专利范围第26项之方法,其中当记录光束系施加于该记录媒介时,该记录媒介之顶面不增加至高于150℃。图式简单说明:第一图系显示藉着使用飞行光学头自该媒介之层侧面施加光束且不穿透该基材而光学地记录一记录媒介或光碟之系统;第二图系显示媒介反射性与顶介电层厚度间之关系;且第三图至第五图系为本发明光学记录媒介之剖面图。
地址 日本
您可能感兴趣的专利