发明名称 毒杀癌细胞之Solamargine药学组合物
摘要 本发明乃揭示一种毒杀癌细胞之药学组合物,其包括有Solamargine以及药学上相容之载体或稀释剂。
申请公布号 TW471968 申请公布日期 2002.01.11
申请号 TW088114533 申请日期 1999.08.25
申请人 行政院卫生署中医药委员会 发明人 郭国华;林忠勇
分类号 A61K31/705 主分类号 A61K31/705
代理机构 代理人 洪澄文 台北巿信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种可毒杀癌细胞之药学组合物,其包括有Solamargine以及药学上相容之载体或稀释剂;其中该癌细胞系择自肺癌和肝癌所构成之族群者。2.如申请专利范围第1项所述之药学组合物,其中该Solamargine之浓度介于约5-60M之间。3.如申请专利范围第1项所述之药学组合物,其中该稀释剂是选自醇类、二甲基亚(DMSO)、Cremophor EL及生理食盐水所构成族群之一者。4.如申请专利范围第1项所述之药学组合物,其中更包括有另一种癌细胞毒杀剂。5.如申请专利范围第4项所述之药学组合物,其中该癌细胞毒杀药物是Cisplatin。6.如申请专利范围第5项所述之药学组合物,其中该Cisplatin之浓度介于20-300M之间。图式简单说明:第一图显示的是利用流体细胞分析仪测定Hep3B细胞,在经过Solamargine(5g/ml)处理不同时间(A,未处理;B,30分钟;C,1小时;D,3小时;E,5小时;F,7小时)后,细胞内之DNA含量分布图(histogram)。第二图显示的是利用流体细胞分析仪测定Hep3B细胞在经过Solamargine(5g/ml)处理不同时间(A,未处理;B,30分钟;C,1小时;D,3小时;E,5小时,F,7小时)后之细胞周期分布。其中,标号1.2.3.4是分别代表细胞周期之sub-G1.G0/G1.S和G2/M期。第三图显示的是以细胞周期中断剂(●控制组;○8g/ml秋水仙素;▼20g/ml环胞菌素;▽20g/ml5,7,4'-三羟基异黄酮)预处理Hep3B细胞16小时,再以Solamargine(0.1.2.3.4.5g/ml)后处理16小时后,Hep3B细胞之细胞毒性分析图。第四图显示的是以Solamargine处理人类Hep3B细胞以促使细胞表现TNFR-I以及TNFR-II后,再分别加入TNFR-I和TNFR-II之抗体以测试此二接受器在Solmargine引起癌细胞进行计画性死亡机转所扮演的角色。其中,标号1是控制组;标号2是抗体100pg处理;标号3是Solamargine 5g/ml处理16小时;标号4是10pg抗体预处理2小时+5g/ml Solamargine后处理16小时;标号5是50pg抗体预处理2小时+5g/ml Solamargine后处理16小时;标号6是100pg抗体预处理2小时+5g/ml Solamargine后处理16小时。第五图显示的是以各种抗癌药物(●Solamargine;▽紫衫醇;▼Cisplatin;○Gemcitabine)分别处理H441细胞16小时后之细胞毒性分析图。第六图显示的是以各种抗癌药物(●Solamargine;▽紫衫醇;▼Cisplatin;○Gemcitabine)分别处理H520细胞16小时后之细胞毒性分析图。第七图显示的是以各种抗癌药物(●Solamargine;▽紫衫醇;▼Cisplatin;○Gemcitabine)分别处理H661细胞16小时后之细胞毒性分析图。第八图显示的是Solamargine与Cisplatin同时处理抗Cisplatin之H441肺癌细胞后之细胞毒性分析图,用以试验Solamargine与Cisplatin在毒杀H441细胞时之加成效果。其中,H441细胞是分别在Solamargine浓度固定(●0;○6;▼12;▽18M),且Cisplatin以剂量依赖模式增加(0.20.40.60.80M)之环境下培养16小时。第九图显示的是Solamargine与Cisplatin同时处理抗Cisplatin之H520肺癌细胞后之细胞毒性分析图,用以试验Solamargine与Cisplatin在毒杀H520细胞时之加成效果。其中,H520细胞是分别在Solamargine浓度固定(●0;○6;▼12;▽18M),且Cisplatin以剂量依赖模式增加(0.20.40.60.80M)之环境下培养16小时。第十图显示的是Solamargine与Cisplatin同时处理抗Cisplatin之H661肺癌细胞后之细胞毒性分析图,用以试验Solamargine与Cisplatin在毒杀H661细胞时之加域效果。其中,H661细胞是分别在Solamargine浓度固定(●0;○6;▼12;▽18M),且Cisplatin以剂量依赖模式增加(0.20.40.60.80M)之环境下培养16小时。
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