发明名称 用于高温废气之温度控制装置与温度控制方法
摘要 在一种包含用于控制高温废气到适当温度并将控温废气排送到后续流程的温度控制塔之温度控制装置中,该温度控制塔包括有:一种用于喷洒冷却水到高温废气气流的约略中心区之冷却水喷洒装置和一种用于沿该温度控制塔内壁喷射冷却气体之冷却气喷射装置。
申请公布号 TW472126 申请公布日期 2002.01.11
申请号 TW090106916 申请日期 2001.03.23
申请人 神户制钢所股份有限公司 发明人 立石 雅孝;铁本 理彦
分类号 F23J15/06;F23G7/06 主分类号 F23J15/06
代理机构 代理人 林镒珠 台北市长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种温度控制装置,其包括: 一用于控制被吹入之高温废气到一适当温度的温 度控制塔; 一用于喷洒冷却水到被吹入到该温度控制塔内之 该高温废气气流约略中心区之冷却水喷洒装置;以 及 一用于喷射沿该温度控制塔之内壁流动的冷却气 之冷却气喷射装置。2.如专利申请范围第1项之温 度控制装置,其进一步包括有:一个用于从一高温 废气生源所排放之该高温废气导入该温度控制塔 的废气入口管,一个配置在该温度控制塔上部以与 该废气入口管相连接之气体吹入口,以及一用于排 放该控温废体之下方排放管。3.如专利申请范围 第1项之温度控制装置,其中该冷却水喷洒装置被 构成用以向下喷洒该冷却水到被吹入该温度控制 塔内之该高温废气气流的约略中心区。4.如专利 申请范围第1项之温度控制装置,其中该冷却气喷 射装置被构成用以沿该温度控制塔之内壁向下喷 射该冷却气。5.如专利申请范围第1项之温度控制 装置,其中复数个冷却气喷射装置系配置在该温度 控制塔内垂直方向上。6.如专利申请范围第1项之 温度控制装置,其中该温度控制塔之塔壁具有至少 两个朝该下侧于直径方向延伸之阶台部分。7.如 专利申请范围第6项之温度控制装置,其中该冷却 气喷射装置被配置在该等阶台部分上。8.如专利 申请范围第1项之温度控制装置,其中该冷却气喷 射装置被配置在向下斜喷该冷却气到该温度控制 塔之内壁之方向,使得该冷却气形成一股沿该温度 控制塔之内壁向下旋转之气流。9.如专利申请范 围第7项之温度控制装置,其中被配置在至少两个 该等阶台部分上之该冷却气喷射装置系被构成用 以从被配置于较上阶台部分上之该喷射装置比从 被配置于较下阶台部分上之该喷射装置可喷射有 更多数量的冷却气。10.如专利申请范围第1项之温 度控制装置,其进一步还包括有:一个用于调节该 冷却水喷洒量之冷却水喷洒控制装置和一个用于 调节该冷却气喷射量之冷却气喷射控制装置,使得 被排放之该控温废体的流量和温度系为一定値。 11.如专利申请范围第1项之温度控制装置,其进一 步还包括有:一个用于调节该冷却水喷洒量之冷却 水喷洒控制装置和一个用于调节该冷却气喷射量 之冷却气喷射控制装置,使得被排放之该控温气体 的湿气成分和温度系为一定値。12.如专利申请范 围第1项之温度控制装置,其中该排放气体入口管 为于该温度控制塔和该高温废气生源之间的倒V型 形状。13.如专利申请范围第1项之温度控制装置, 其中该高温废气生源是一种用于制备还原铁的还 原金属冶炼设备,该冶炼设备用碳还原剂与用一种 金属氧化物或包含该金属氧化物之废料作为原料, 在高温下进行还原反应与熔解。14.一种温度控制 装置,其具有一个用于将所吹入之该高温废气控制 到一适当温度并将该控温废体排放到后续流程,该 温度控制塔包含有:一种用于将该冷却水喷洒到该 高温废气气流约略中心区之冷却水喷射装置和一 种用于沿该温度控制塔之内壁喷射冷却气之冷却 气喷射装置。15.一种用于高温废气之温度控制方 法,其包括有: 经由一废气入口管将高温废气产生源所排放之该 高温废气吹入一温度控制塔; 从该温度控制塔之上部向下喷洒冷却水到到该高 温废气气流的约略中心区; 向下斜喷冷却气,使其形成一股沿该温度控制塔之 内壁的旋转气流;以及 从该下方排放管将被控制到适当温度之该废气排 放到后续步骤。16.如专利申请范围第15项之用于 高温废气之温度控制方法,其中该温度控制塔包括 有:至少两个朝该下侧于直径方向延伸之阶台部分 ,该冷却气由位于较上阶台部分和位于较下阶台部 分的冷却气喷射装置所喷射,且位于较上阶台部分 喷射装置比位于较下阶台部分喷射装置喷射更多 之冷却气。17.如专利申请范围第15项之用于高温 废气之温度控制方法,其中该冷却气之喷射量和该 冷却水之喷洒量可进行调节,使得从该下方排放管 所排放之该控温废体的温度和排送量系为一定値 。18.如专利申请范围第15项之用于高温废气之温 度控制方法,其中该冷却气之喷射量和冷却水之喷 射量可进行调节,使得从该下方排放管所排放之该 控温废体的温度和湿气成分系为一定値。19.如专 利申请范围第15项之用于高温废气之温度控制方 法,其中该高温废气产生源所排放之该高温废气先 是被引导斜向上,接着斜向下,然后被吹入到该温 度控制塔。20.如专利申请范围第15项之用于高温 废气之温度控制方法,其中该高温废气系从该高温 废气产生源排放,而该高温废气产生源是一种用于 制备还原铁之还原金属冶炼设备,该冶炼设备对一 种碳素还原剂和一种包含该金属氧化物之废料在 高温下进行还原反应,所排放之高温废气被吹入该 温度控制塔。21.一种用于高温废气之温度控制方 法,其包括:经由一废气入口管和从一配置于该温 度控制塔上部之气体吹入口,将一高温废气产生源 所排放之高温废气吹入一温度控制塔,该温度控制 塔具有至少两个朝该下侧在直径方向延伸之阶台 部分;将所吹入之该高温废气控制到一适当温度, 并从一下方排放管将该控温废体排放到后续步骤; 冷却水从该温度控制塔之上部喷洒到该高温废气 气流的约略中心区;冷却气从配置于该温度控制塔 之该等阶台部分上之该冷却气喷射装置被向下斜 喷,位于该较上阶台部分上之该冷却气喷射装置比 位于较下阶台部分上之该冷却气喷射装置喷射更 多的冷却气,致使沿该温度控制塔之内壁形成一股 旋转气流;以及该冷却水之喷洒量和该冷却气之喷 射量进行调节,使得从该底部排放管所排放之该控 温废体的数量和温度系为一定値。图式简单说明: 第一图系根据本发明较佳实施例之一种温度控制 装置的剖视图; 第二图A系第一图中A部分之放大视图; 第二图B系第二图A中沿B-B线之剖视图; 第二图C系第一图中D部分之放大视图; 第二图D系第二图C中沿D-D线之剖视图; 第三图系根据本发明实施例之该温度控制装置的 该高温气体导入管的侧视图; 第四图系显示本发明举例说明中之该温度控制装 置的温度分布图。
地址 日本