发明名称 环境净化用光触媒粉体及其制造方法、聚合物组成物、聚合物成形品及其制造方法
摘要 本发明之环境净化用光触媒粉体,系二氧化钛微粒子表面之至少一部分为形成有多孔质磷酸钙之覆盖层之粉体所构成,且二氧化钛微粒子表面与该多孔质磷酸钙之覆盖层至少于界面上存在有阴离子界面活性剂。该光触媒粉体,系于含有阴离子界面活性剂之水性悬浮液中将二氧化钛微粒子分散处理,按着于该微拉子表 面上形成 多孔 质磷酸钙之覆盖层所制造。该光触媒粉体,系可载持于有机聚合物成形品上而加以使用。
申请公布号 TW471981 申请公布日期 2002.01.11
申请号 TW087121661 申请日期 1998.12.24
申请人 工业技术院;昭和电工股份有限公司;田博史;野浪亨 发明人 田博史;野浪亨;伊藤桂;萩原浩行
分类号 B01J21/06;B01J29/82 主分类号 B01J21/06
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种环境净化用光触媒粉体,其特征在于:系由于 二氧化钛微粒子表面之至少一部分上形成有多孔 质磷酸钙之覆盖层的粉体所构成,且该多孔质磷酸 钙之覆盖层与二氧化钛微粒子间,至少于界面上存 在有阴离子性界面活性剂。2.如申请专利范围第1 项之环境净化用光触媒粉体,其中该二氧化钛微粒 子之一次粒子之平均粒径为0.001-0.2微米。3.如申 请专利范围第1或2项之环境净化用光触媒粉体,其 中该二氧化钛微粒子为一种粉体,系以卤化钛为原 料进行气相反应制成之一次分散粒子形成之。4. 如申请专利范围第1或2项之环境净化用光触媒粉 体,其中该多孔质磷酸钙之量,以二氧化钛微粒子 重量为准,为0.01-50重量%。5.一种环境净化用光触 媒粉体之制造方法,其特征在于:系于含有阴离子 性界面活性剂之水性悬浮液中,将二氧化钛微粒子 予以分散处理,接着于该微粒子表面之至少一部分 上形成多孔质磷酸钙之覆盖。6.如申请专利范围 第5项之环境净化用光触媒粉体之制造方法,其中 该用于二氧化钛微粒子之分散处理的水性悬浮液, 相对于二氧化钛100重量份,系含有0.02-20重量份之 阴离子性界面活性剂。7.如申请专利范围第5或6项 之环境净化用光触媒粉体之制造方法,其中该二氧 化钛微粒子之一次粒子之平均粒径为0.001-0.2微米 。8.如申请专利范围第5或6项之环境净化用光触媒 粉体之制造方法,其中该二氧化钛微粒子为一种粉 体,系以卤化钛为原料且进行气相反应而制成之一 次分散粒子所形成者。9.如申请专利范围第5或6项 之环境净化用光触媒粉体之制造方法,系藉着使至 少含有钙离子及磷酸离子之拟态体液(mimic body fluid)与二氧化钛微粒子相接触,并于二氧化钛微粒 子表面之至少一部分上析出多孔质磷酸钙,而形成 该覆盖。10.如申请专利范围第9项之环境净化用光 触媒粉体之制造方法,其中该拟态体液中之钙离子 浓度为0.1-50mM,而该磷酸离子浓度为0.1-20mM。11.一 种聚合物组成物,包含有: 有机聚合物;及 申请专利范围第1或2项之环境净化用光触媒粉体, 该光触媒粉体以组成物全重量为准,系占0.01-80重 量%。12.一种聚合物成形品,系具有环境净化机能 者,其系使申请专利范围第11项之聚合物组合物成 形而形成者。13.一种聚合物成形品之制造方法,该 聚合物成形品系具有环境净化机能者,该方法系使 申请专利范围第11项之聚合物组合物于挤压机中 进行混练,并透过该挤压机挤压成形。
地址 日本