发明名称 调节抛光垫之方法及装置
摘要 一种用以调节一抛光垫的方法及装置,该方法包括使具有一研磨物质固定于其上之圆柱形滚轮移动而顶抵一移动中的抛光垫,该滚轿可以主动地转动或以可变的速度往复移动,但仍保持一压力顶抵该抛光垫。该装置包括一圆柱形滚轮,该滚轮系连接于机械地连接于该滚轮之一或多个压力施加装置 。 一种用以调节一抛光垫的方法及装置,该方法包括使具有一研磨物质固定于其上之圆柱形滚轮移动而顶抵一移动申的抛光垫,该滚轮可以主动地转动或以可变的速度往复移动,但仍保持一压力顶抵该抛光垫。该装置包括一圆柱形滚轮,该滚轮系连接于机械地连接于该滚轮之一或多个压力施加装置。
申请公布号 TW471992 申请公布日期 2002.01.11
申请号 TW089128328 申请日期 2001.03.01
申请人 兰研究公司 发明人 艾力克斯 芬克曼
分类号 B24B37/04;B24B7/24;H01L21/304 主分类号 B24B37/04
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种调节抛光垫之装置,该抛光垫系使用于使半 导体晶圆化学机械平面化,该装置包含: 一长形垫调节构件,其系可旋转地定位在一轴杆四 周,该轴杆具有大致平行于一抛光垫之一平面的一 轴并且其中该长形垫调节构件系相对该抛光垫之 移动方向被定位在一非垂直角度处; 一研磨物质,其系沿该长形垫调节构件之一外周缘 的至少一部份设置; 一压力施加系统,其系与该轴杆连接且可移动地压 迫该长形垫调节构件顶抵该抛光垫;及 一马达,其系与该长形垫调节构件连接且可当该压 力施加系统压迫该长形垫调节构件顶抵该抛光垫 时,使该长形垫调节构件以该轴杆为中心以可变之 速度可旋转地往复移动。2.如申请专利范围第1项 之装置,其中该长形垫调节构件包含一圆柱形滚轮 。3.如申请专利范围第1项之装置,其中该马达系定 位在该滚轮内侧,该轴杆系固定在一非转动位置, 并且该马达系可使该长形垫调节构件以该轴杆为 中心旋转。4.一种调节抛光垫之装置,该抛光垫系 使用于使半导体晶圆化学机械平面化,该装置包含 : 一长形垫调节构件,其系可旋转地定位在一轴杆四 周,该轴杆具有大致平行于一抛光垫之一平面的一 轴并且其中该长形垫调节构件系相对该抛光垫之 移动方向被定位在一非垂直角度处; 一研磨物质,其系沿该长形垫调节构件之一外周缘 的至少一部份设置; 一压力施加系统,其系与该轴杆连接且可移除地压 迫该长形垫调节构件顶抵该抛光垫;及 一马达,其系与该长形垫调节构件连接且可当该压 力施加系统压迫该长形垫调节构件顶抵该抛光垫 时,使该长形垫调节构件以该轴杆为中心以可变之 速度连续地旋转。5.如申请专利范围第4项之装置, 其中该长形垫调节构件包含一圆柱形滚轮。6.如 申请专利范围第4项之装置,其中该马达系定位在 该滚轮内侧,该轴杆系固定在一非转动位置,并且 该马达系可使该长形垫调节构件以该轴杆为中心 旋转。7.一种调节抛光垫之方法,该抛光垫系在用 于使半导体晶圆化学机械平面化之一直线型晶圆 抛光器上,该方法包含下列步骤: 提供包含一圆柱形滚轮之一抛光垫调节器,该滚轮 具有一纵向转轴及沿着该滚轮之一外周缘之至少 一部份固定之一研磨物质; 定位该抛光垫调节器靠近该抛光垫,其中该圆柱形 滚轮之纵向转轴的方向大致平行于该抛光垫且在 相对该抛光垫之移动方向呈一非垂直角度处; 当该抛光垫在移动时,使该圆柱形滚轮以一可变速 度旋转顶抵该抛光垫;及 维持一压力使该抛光垫顶抵该圆柱形滚轮。8.如 申请专利范围第7项之方法,其中该马达系定位在 该滚轮内侧,该轴杆系固定在一非转动位置,并且 该马达系可使该长形垫调节构件以该轴杆为中心 旋转。9.一种调节抛光垫之方法,该抛光垫系在用 于使半导体晶圆化学机械平面化之一直线型晶圆 抛光器上,该方法包含下列步骤: 提供包含一滚轮的一抛光垫调节器,该滚轮具有沿 着该滚轮之一外周缘之一预定部份纵向地固定的 一研磨物质,该滚轮系定位于靠近该抛光垫处,使 该抛光垫不会位在相对该抛光垫之移动方向的一 直角处; 调整该滚轮之方向使该研磨物质面向该抛光垫; 当该抛光垫在移动时,移动该滚轮顶抵该抛光垫; 使该滚轮以该滚轮之一转轴为中心可变地且可旋 转地往复移动一预定旋转距离;及, 当该垫在移动且该滚轮往复移动时,在该滚轮及该 抛光势之间维持一预定压力,因此使该研磨物质由 该抛光垫上移除多余的泥渣及污物。10.如申请专 利范围第9项之方法,还包含下列步骤: 使该滚轮移动远离该抛光垫; 将一滚轮槽定位在该抛光垫调节器下方; 使该滚轮降低进入该滚轮槽;及 使该滚轮以该转轴为中心旋转,藉此使泥渣及污物 松散。11.如申请专利范围第9项之方法,还包含下 列步骤: 使该滚轮移动远离该抛光垫; 使该滚轮旋转直到固定于该滚轮上之一刷子对准 该抛光垫为止;及 藉使该滚轮降低顶抵该垫来刷拭该抛光垫。图式 简单说明: 第一图是一垫调节装置之一较佳实施例的立体图 。 第二图是第一图之垫调节装置的一侧视平面图。 第三图是与第一图之垫调节器一起使用之一压力 控制系统的一较佳压力控制图的示意图。 第四图是与一直线型带抛光装置一起使用之第一 图之垫调节器的一侧视图。 第五图是第四图之抛光垫调节器及直线型带抛光 装置的一上视图。 第六图是包括一滚轮槽之第四图之抛光垫调节器 及直线型带抛光器的另一实施例。 第七图是第六图之抛光垫调节器及滚轮槽的一立 体图。 第八图是显示调节一抛光垫之一较佳方法的流程 图。 第九图是一抛光垫调节器的另一实施例。 第十图是第九图之抛光垫调节器之一截面图。 第十一图是第九图之抛光垫调节器用的向下力量 控制系统的示意图。 第十二图显示第九图之抛光垫调节器之滚轮相对 一抛光垫的一位置。 第十三图显示第九图之抛光垫调节器之滚轮相对 一抛光垫的另一位置。 第十四图是该调节器沿着该带之移动方向之向量 的图。 第十四图a是该调节器沿着该带移动之方向之向量 的图的一侧视图。 第十五图是该调节器沿着该带之移动方向之另一 种向量的图。 第十五图a是该调节器沿着该带之移动方向之另一 种向量的图的一侧视图。
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