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1.一种大量染色高分子量有机物质的方法,其中 (A)0.1至70重量%,以欲染色之高分子量有机物质为基 准,之可溶氰先质,其系选式(I)至(VII)化合物所组 成之族群, 其中L1和L2各自独立为卤素,C1-C18烷氧基,C1-C18烷硫 基,C1-C18烷胺基,C2-C18二烷胺基,或未经取代或经1或 2个C1-C12烷基经取代之5-或6-员亚胺基环,该亚胺基 环系包含零或一个额外的氮或氧原子, M是二个氢,二个具有一价的金属或具有一个或更 多价的金属, y是0到16之数,和 每一Z各自独立地为卤素,C1-C18烷基,C1-C18烷氧基,C1- C18烷硫基或C2-C18二烷胺基, 藉由混合或研磨合并至该高分子量物质中,和 (B)其中该包含大量式(I)至(VII)的化合物之高分子 量有机物质被加热到至少130℃,或暴露在波长250- 500奈米(nm)的辐射中,藉此该式(I)至(VII)的化合物, 实质上在无水下,转换成式(VIII)的化合物 其中M,y和Z具有如上述之相同定义。2.根据申请专 利范围第1项之方法,其中L1和L2为C2-C18二烷胺基,吗 福基,四氢咯基或未经取代或经C1-C12烷基取代 之N-六氢啶基。3.根据申请专利范围第1项之方 法,其中M为H2,Zn,Cu,Ni,Ee,Ti或V。4.根据申请专利范围 第1项之方法,其中Z为溴或氯。5.根据申请专利范 围第1项之方法,其中转化成式(VIII)化合物系藉由 在没有任何苛性或在加热到130-400℃时或在波长250 -500奈米的光暴露时与式(I)至(VII)之先质,与式(VIII) 的色料或与高分子量有机物质反应的任何化合物 存在下进行。6.根据申请专利范围第1项之方法,其 中加热系藉由IR雷射达成,其波长是在800-10600奈米 之范围。7.一种用于大量染色高分子量有机物质 的方法之组成物,包括 (a)可溶氰先质,系选自下述式(I)至(VII)化合物所 组成之族群, (b)基本上不能渗透水和水性溶剂之高分子量有机 物质, 其中该可溶氰先质(a)大量嵌于该高分子量有机 物质(b)中及该可溶氰质(a)之量为该高分子量有 机物质(b)之量的0.1至70重量%。8.根据申请专利范 围第7项之组成物,其中该高分子量有机物质(b)吸 收≦3重量%之水和水性溶剂且在水中不膨胀。9.根 据申请专利范围第7项之组成物,其中可溶氰先 质(a)包含在0.01到70重量%的量,以欲染色之高分子 量有机物质为基准。10.一种藉由根据申请专利范 围第1项的方法获得之组成物,其中式(VIII)的单一 氰色料粒子基本上具有长度≦1微米(um)且和其 本上是不聚集的。11.根据申请专利范围第1项的方 法,其中 L1和L2是吗福基咯啶基及经C1-C12烷基取代之N- 六氢啶基,M是Zn,Cu或Ni,y是0至16之数目,及各Z分别 是卤素。12.一种制备结构彩色图像之组成物,包括 (a')1至70重量%之可溶氰先质,系选自由式(I)至(VII )化合物所组成之族群, (b')99至30重量%之可藉由加热或照射而交联,聚合作 用或去聚合作用之正或负光阻剂类型树脂,聚合物 或预聚物。13.根据申请专利范围第12项之组成物, 额外地包含正或负的聚合物结构之光阻剂类型树 脂的催化剂。14.根据申请专利范围第13项之组成 物,其中该成分(a'):(b'):(c')之混合比为 0.01:99.98:0.01到75:5:20,以重量计。15.一种制备染色 图形或图像的方法,其中该图形或图像层系以不可 溶色料染色,从其可溶先质区域性地再生,包括下 列步骤: (1)使用包括成分(a'),(b')和选择性地(c')之组成物, 形成包含可溶氰先质之聚合物层,该先质选择自 由式(I)至(VIII)的化合物所组成之族群, (2)藉由热处理或光致处理,从上述可溶先质中区域 性地再生色料。16.根据申请专利范围第15项之方 法,步骤(2)系藉由雷射印记实施。17.一种用于制造 结构彩色图像的组成物,包括 (a')0.1至80重量%之可溶氰先质,选自由式(I)至(VIII )化合物所组成之族群, (b")99.9至20重量%之高分子量黏合剂物质。18.一种 制备染色图形或图像的方法,其系包括下列步骤: (1)形成包含可溶氰先质之聚合物层,该先质选自 由式(I)至(VIII)化合物所组成之族群, (2)藉由热处理或光致处理,从上述可溶先质区域性 地再生色素, 其中步骤(1)系藉由下列步完成: -使用包括成分(a')和高分子量有机黏合剂物质(b") 及选择性地(c')的组成物形成包含可溶色料先质之 聚合物层; -(1a)形成包含高分子量有机黏合剂物质(b")和可选 泽地(c')的聚合物层,然后(1b)将包含色料先质(a')之 油墨喷至在经选择目标区域中之聚合物层上; -(1a)形成包含高分子量有机黏合剂物质(b")和选择 性地(c')的聚合物层,然后(1b)将包含色料先质(a')和 高分子量有机的黏合剂物质(b")之施体层叠压至聚 合物层之上,(1c)区域性地加热施体层以转移染料 于经选择的目标区域中,和(1d)从接受器层除去施 体。19.根据申请专利范围第11项之组成物,使用于 制造三原色滤色器。20.根据申请专利范围第17项 之组成物,使用于制造三原色滤色器。21.根据申请 专利范围第15项之方法,其中所制得之图形或图像 为三原色滤色器的元件。22.根据申请专利范围第 18项之方法,其中所制得之图形或图像为三原色滤 色器的元件。 |
