| 主权项 |
1.一种电浆显像萤幕,其具有一个前板(1),包括玻璃 板(3),于其上提供介电层(4)与保护层(5),一个背板(2 ),许多充满气体之电浆室,经排列在该板之间,且藉 由间隔壁分隔,及多个电极(6,7,11),于前板(1)与背板 (2)上,用以产生电晕放电,其特征在于UV光反射层(8) 系提供于保护层(5)上。2.如申请专利范围第1项之 电浆显像萤幕,其特征在于UV光反射层(8)包含组成 为M2O之氧化物,譬如Li2O,或组成为MO之氧化物,其中M 系选自Mg、Ca、Sr及Pa,或组成为M2O3之氧化物,其中M 系选自B、Al、Sc、Y及La,或组成为MO2之氧化物,其中 M系选自Si、Ge、Sn、Ti、Zr及Hf,或组成为M'M"2O4之氧 化物,其中M'系选自Mg、Ca、Sr及Ba,而M"系选自Al、Sc 、Y及La,或组成为MF之氟化物,其中M系选自Li、Na、K 、Rb、Cs及Ag,或组成为MF2之氟化物,其中M系选自Mg 、Ca、Sr、Ba、Sn、Cu、Zn及Pb,或组成为MF3之氟化物, 其中M系选自La、Pr、Sm、Eu、Gd、Yb及Lu,或组成为M'M "F3之氟化物,其中M'系选自Li、Na、K、Rb及Cs,而M"系 选自Mg、Ca、Sr及Ba,或组成为M3PO4之磷酸盐,其中M系 选自Li、Na、K、Rb及Cs,或组成为M3(PO4)2之磷酸盐,其 中M系选自Mg、Ca、Sr及Ba,或组成为MPO4之磷酸盐,其 中M系选自Al、Se、Y、La、Pr、Sm、Eu、Gd、Yb及Lu,或 组成为M3(PO4)4之磷酸盐,其中M系选自Ti、Zr及Hf,或 具有链长n在3与9之间,且组成为(MxPO3)n之偏磷酸盐, 其中若M系选自Li、Na、K、Rb及Cs,则x=1,若M系选自Mg 、Ca、Sr、Ba、Sn、Cu、Zn及Pb,则x=1/2,若M 系选自Al、Sc、Y、La、Pr、Sm、Eu、Gd、Yb及Lu,则x=1/3 ,及若M系选自Ti、Hf及Zr,则x=1/4,或具有链长n在101与 106之间,且组成为(MxPO3)n之多磷酸盐,其中若M系选 自Li、Na、K、Rb及Cs,则x=1,若M系选自Mg、Ca、Sr、Ba 、Sn、Cu、Zn及Pb,则x=1/2,若M系选自Al、Sc、Y、La、Pr 、Sm、Eu、Gd、Yb及Lu,则x=1/3,及若M系选自Ti、Hf及Zr, 则x=1/4,或组成为MH2PO4之一级磷酸盐,其中M系选自Li 、Na、K、Rb及Cs,或NH4H2PO4,或金刚石。3.如申请专利 范围第1项之电浆显像萤幕,其特征在于UV光反射层 (8)包含具有粒子直径在200毫微米与500毫微米间之 粒子。4.如申请专利范围第3项之电浆显像萤幕,其 特征在于UV光反射层(8)具有0.5微米至5微米之厚度 。5.如申请专利范围第1项之电浆显像萤幕,其特征 在于UV光反射层(8)包含具有粒子直径在10毫微米与 200毫微米间之粒子之黏聚物。6.如申请专利范围 第5项之电浆显像萤幕,其特征在于UV光反射层(8)具 有0.2微米至10微米之厚度。7.如申请专利范围第1 项之电浆显像萤幕,其特征在于UV光反射层(8)系完 全或仅部份覆盖保护层(5)。图式简单说明: 第一图系说明AC电浆显像萤幕中单一电浆室之构 造与操作原理,与 第二图描绘根据本发明UV光反射层之反射特性。 |
