| 摘要 |
<p>본 발명은 반응성 스퍼터링 장치 및 이를 이용한 질화탄소막의 형성방법에 관한 것으로서, 특히 평행하게 설치된 이중 타겟을 갖는 이중 타겟 반응성 스퍼터링장치를 이용하여 종래의 반응성 스퍼터링 장치보다 낮은 온도에서도 질화탄소막의 증착율을 높일 수 있으며 또한 공구강의 표면에 질화탄소막을 형성하여 공구강의 경도를 높이는 것을 목적으로 한다. 이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 타겟을 지지하는 타겟 홀더와, 기판을 지지하는 기판 홀더와, 반응실 내의 공기를 배출하기 위한 배기펌프와, 가스공급관과, 기판에 전력을 공급하는 전원을 포함하는 반응성 스퍼터링 장치에 있어서, 평행하게 설치된 이중 타겟과, 상기의 이중 타겟을 지지하고 이들 사이의 거리를 조절할 수 있는 타겟 홀더로 구성되고, 상기 타겟 홀더 내부에는 자기장 발생장치를 포함하고, 기판이 상기 이중 타겟의 중심축과 평행하게 장착되도록 상기 기판을 지지하는 기판 홀더를 포함하는 것을 특징으로 하는 이중 타겟 반응성 스퍼터링 장치 및 이를 이용하여 기판 또는 공구강의 표면에 질화탄소막을 형성하는 방법으로 구성된다. 본 발명에 따라 종래의 반응성 스퍼터링 장치보다 낮은 온도에서 질화탄소막의 증착율을 높이고, 결정의 연속성을 향상시키며, 공구강의 표면에 질화탄소막을 형성하여 공구강의 경도를 높이는 장점이 있다.</p> |
