| 发明名称 | 层叠状磁性结构及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种层叠状磁性结构，用于磁记录和／或重放头，包括至少第一和第二层，所述第一层形成一个籽晶层，所述第二层形成具有第一成分的铁硅铝合金的整体层，所述第二层形成在所述第一层之上，所述第一层由具有不同于所述第一成分的第二成分的SiAlFe合金构成，所述的第一成分为重量范围为7．5—13．0％的Si，2．0—7.0％的Al，其余为Fe，所述的第二成分为重量范围为7．5—13．0%的Si，2．0—7．0％的Al，其余为Fe。$#! | ||
| 申请公布号 | CN1077705C | 申请公布日期 | 2002.01.09 |
| 申请号 | CN94100681.6 | 申请日期 | 1994.01.12 |
| 申请人 | 国际商业机械公司 | 发明人 | 琼·Ｄ·威斯特伍德 |
| 分类号 | G11B5/31 | 主分类号 | G11B5/31 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 李德山 |
| 主权项 | 1.一种层叠状磁性结构(50)，用于磁记录和/或重放头，包括至少第一和第二层，所述第一层(53)形成一个籽晶层，所述第二层(55)形成具有第一成分的铁硅铝(SiAlFe)合金的整体层，所述第二层形成在所述第一层之上，其特征在于所述第一层由具有不同于所述第一成分的第二成分的SiAlFe合金构成，所述的第一成分为重量范围为7.5-13.0％的Si，2.0-7.0％的Al，其余为Fe，所述的第二成分为重量范围为7.5-13.0％的Si，2.0-7.0％的Al，其余为Fe。 | ||
| 地址 | 美国纽约 | ||