发明名称 使用碳纳米管的竖直纳米尺寸晶体管及其制造方法
摘要 提供使用碳纳米管能够实现高密度集成,即万亿比特规模集成的竖直纳米尺寸晶体管,及其制造方法。在使用碳纳米管的竖直纳米尺寸晶体管中,具有几个纳米直径的孔形成在诸如间隔几个纳米的矾土的绝缘层中,以通过CVD,电泳或机械压缩,在纳米尺寸的孔中竖直排列碳纳米管,以用作沟道。而且,使用普通半导体制造方法,在碳纳米管附近形成栅,然后源和漏形成在每个碳纳米管的上下部分,从而制做出具有电子开关特征的竖直纳米尺寸晶体管。
申请公布号 CN1330412A 申请公布日期 2002.01.09
申请号 CN01122021.X 申请日期 2001.06.22
申请人 三星电子株式会社 发明人 崔原凤;李兆远;李永熙
分类号 H01L29/78;H01L21/336 主分类号 H01L29/78
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 王以平
主权项 1.一种使用碳纳米管的竖直纳米尺寸晶体管包含:具有纳米尺寸直径孔的绝缘层;竖直排列在孔中的碳纳米管;在碳纳米管附近形成在绝缘层上的栅;沉积在栅上以填充孔的非传导薄膜;在非传导薄膜和碳纳米管上形成的漏;以及在绝缘层和碳纳米管下形成的源。
地址 韩国京畿道