发明名称 | 使用碳纳米管的竖直纳米尺寸晶体管及其制造方法 | ||
摘要 | 提供使用碳纳米管能够实现高密度集成,即万亿比特规模集成的竖直纳米尺寸晶体管,及其制造方法。在使用碳纳米管的竖直纳米尺寸晶体管中,具有几个纳米直径的孔形成在诸如间隔几个纳米的矾土的绝缘层中,以通过CVD,电泳或机械压缩,在纳米尺寸的孔中竖直排列碳纳米管,以用作沟道。而且,使用普通半导体制造方法,在碳纳米管附近形成栅,然后源和漏形成在每个碳纳米管的上下部分,从而制做出具有电子开关特征的竖直纳米尺寸晶体管。 | ||
申请公布号 | CN1330412A | 申请公布日期 | 2002.01.09 |
申请号 | CN01122021.X | 申请日期 | 2001.06.22 |
申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 崔原凤;李兆远;李永熙 |
分类号 | H01L29/78;H01L21/336 | 主分类号 | H01L29/78 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王以平 |
主权项 | 1.一种使用碳纳米管的竖直纳米尺寸晶体管包含:具有纳米尺寸直径孔的绝缘层;竖直排列在孔中的碳纳米管;在碳纳米管附近形成在绝缘层上的栅;沉积在栅上以填充孔的非传导薄膜;在非传导薄膜和碳纳米管上形成的漏;以及在绝缘层和碳纳米管下形成的源。 | ||
地址 | 韩国京畿道 |