发明名称 | 基片检验装置 | ||
摘要 | 基片检验装置,备有:矩形的基片保持机构、将该机构升起至预定角度的驱动机构、和沿基片侧缘至少直交的2个方向设于该保持机构,检测该基片的缺陷部的位置坐标的检测机构;该检测机构备有:沿基片侧缘朝二个方向设置的二组导轨;可沿一组导轨移动,朝与该一方向直交的方向射出光的光源以横跨基片的状态,可沿一组导轨移动,从光源射出的光被投射的投射部件;依各组导轨的光源和投射部件的位置,检测该缺陷部的位置坐标的检测部。 | ||
申请公布号 | CN2470821Y | 申请公布日期 | 2002.01.09 |
申请号 | CN01208700.9 | 申请日期 | 2001.03.26 |
申请人 | 奥林巴斯光学工业株式会社 | 发明人 | 藤崎畅夫;永见理 |
分类号 | G01N21/84;G01N21/88;G02F1/13 | 主分类号 | G01N21/84 |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 黄剑锋 |
主权项 | 1.基片检验装置,其特征在于,备有:保持被检验基片的矩形的基片保持机构、将该基片保持机构升起至预定角度的驱动机构、和位置座标检测机构,上述位置座标检测机构沿着被检验基片侧缘的至少直交的2个方向设在上述基片保持机构上,用于检测被检验基片上的缺陷部的位置座标,上述位置座标检测机构备有:投射部件和检测部;沿着被检验基片侧缘朝二个方向设置的二组导轨;光源,其可沿着上述二方向之中的一方向的一组导轨移动,朝着与该一方向直交的方向射出光;投射部件,其以横跨被检验基片的状态,可沿着上述二方向之中的一方向的一组导轨移动,从上述光源射出的光投射在该投射部件上;检测部,其使光源射出的光线和上述投射部件位于上述缺陷部上,根据上述各组导轨上的光源和投射部件的位置,检测出上述缺陷部的位置座标。 | ||
地址 | 日本东京都 |