发明名称 | 光波导的制作方法 | ||
摘要 | 描述了一种用来处理波导结构的方法,其中波导结构包括一个具有集成肋形波导(2)的硅衬底。该波导具有一个带小平面(52)的端部,该端部悬伸出硅衬底,并在其下侧有一层氧化物层(3),此氧化物层突出于波导小平面之外(11)。一层氮化物层(10)在波导上表面和小平面上延伸。处理过程包括从下侧蚀刻氧化物层(3,11),生长一层新的氧化物层,蚀刻氮化物层(10),然后沉积一层新的氮化物层。 | ||
申请公布号 | CN1330772A | 申请公布日期 | 2002.01.09 |
申请号 | CN99814429.0 | 申请日期 | 1999.12.01 |
申请人 | 博克汉姆技术股份有限公司 | 发明人 | J·P·德雷克 |
分类号 | G02B6/30 | 主分类号 | G02B6/30 |
代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 钱慰民 |
主权项 | 1.一种用于处理波导结构的方法,其中波导结构包括:硅衬底,它具有一集成的肋形波导,波导具有一个带小平面的端部,此端部悬伸出硅衬底,并在其下侧具有一层从波导小平面伸出的氧化物层,还具有一层在波导上表面和小平面上延伸的氮化物层,其特征在于,所述方法包括以下步骤:i)执行氧化物蚀刻步骤,从下侧去除氧化物层;ii)执行氧化物生长步骤,在下侧的外露硅上形成一层新的氧化物层,所述新的氧化物层在小平面处终止;iii)执行氮化物蚀刻步骤,去除氮化物层;以及iv)沉积一层新的氮化物层,它在上表面和小平面上延伸,但不突出在小平面之外,从而在小平面上制成氮化硅。 | ||
地址 | 英国牛津郡 |