| 主权项 |
1.一种能够缩短检查时间之光罩检查装置,检查用以制作一积体电路之光罩上的图案缺陷,该装置包括:一XY平台,该光罩被放置于该平台上;一影像撷取光学系统,撷取放置于该平台上之该光罩的图案影像,而获得一具有第一至第N画面之撷取影像图案(N为大于或等于2之整数);第一至第M影像比较器(M为大于或等于2,且小于N之整数);一分配器,将该撷取影像图案之第一至第N画面接替地分配给该第一至第M影像比较器;一检查控制器,将用以描绘该光罩图案之电脑辅助设计资料转换成相对于该撷取影像图案之第一至第N画面之第一至第N中间资料,并接替地将该第一至第N中间资料初步传送至该第一至第M影像比较器;该第一至第M影像比较器将该撷取影像图案分别与得自该第一至第N中间资料之第一至第N参考影像进行比较,以检查该撷取影像图案之第一至第N画面有无任何缺陷。2.如申请专利范围第1项所述之装置,其中:该影像撷取光学系统包括一雷射扫描光学系统及一发光侦测器,该雷射扫描光学系统产生一雷射光束,在Y方向上对放置于该XY平台之光罩进行扫描,并且使该XY平台在垂直于Y方向之X方向上移动,该发光侦测器侦测一来自该雷射光束而穿过该光罩之发射光,以得到该撷取影像图案之每一个第一至第N画面的二维影像图案。3.如申请专利范围第1项所述之装置,其中:该第一至第M影像比较器分别将对该撷取影像图案之第一至第N画面检查所得之检查结果传送至该检查控制器。4.如申请专利范围第1项所述之装置,其中:该分配器包括第一至第M画面暂存器,分别暂存该撷取影像图案之第一至第N画面;该分配器将该第一至第M画面暂存器中暂存之第一至第N画面分别接替地分配给该第一至第M影像比较器。5.一种光罩检查装置,将一用以制作一积体电路之光罩的相邻参考及比对印模图案进行比较,以检查该等图案中之缺陷,该装置包括:一XY平台,该光罩被放置于该平台上;一影像撷取光学系统,撷取放置于该平台上之该光罩的参考印模图案,而获得一具有第一至第N画面之撷取参考印模图案,同时亦撷取放置于该平台上之该光罩的比对印模图案,而获得一具有第一至第N画面之撷取比对印模图案(N为大于或等于2之整数);第一至第M影像比较器(M为大于或等于2,且小于N之整数);一分配器,将该撷取参考印模图案之第一至第N画面接替地分配给该第一至第M影像比较器,同时亦将该撷取比对印模图案之第一至第N画面接替地分配给该第一至第M影像比较器;该第一至第M影像比较器包括第一至第M印模图案记忆器,将该撷取参考印模图案之第一至第N画面记忆为第一至第N记忆画面;该第一至第M影像比较器将该撷取比对印模图案之第一至第N画面分别与该第一至第N记忆画面进行比较,该第一至第N记忆画面系跟随在该撷取参考印模图案之第一至第N画面后被传送,以检查在该撷取参考印模图案之每一个第一至第N画面与相对的该撷取比对印模图案之每一第一至第N画面间有无任何缺陷。6.如申请专利范围第5项所述之装置,其中:该影像撷取光学系统包括一雷射扫描光学系统及一发光侦测器,该雷射扫描光学系统产生一雷射光束,在Y方向上对放置于该XY平台之光罩进行扫描,并且使该XY平台在垂直于Y方向之X方向上移动,该发光侦测器侦测一来自该雷射光束而穿过该光罩之发射光,以得到该撷取参考及比对印模图案之每一个第一至第N画面的二维影像图案。7.如申请专利范围第5项所述之装置,其中:该分配器包括第一至第M画面暂存器,暂存该撷取参考印模图案之第一至第N画面;该分配器将暂存于该第一至第M画面暂存器之该撷取参考印模图案之第一至第N画面分别接替地分配给该第一至第M影像比较器;该第一至第M画面暂存器暂存该撷取比对印模图案之第一至第N画面;该分配器将暂存于该第一至第M画面暂存器之该撷取比对印模图案之第一至第N画面分别接替地分配给该第一至第M影像比较器。图式简单说明:第一图系本发明一实施例之光罩检查装置之方块图;第二图系第一图之光罩检查装置之细部方块图;第三图显示第二图之光罩检查装置所进行之印模对资料库检查法;第四图系第二图之光罩检查装置所进行之印模对资料库检查法的时序图;第五图显示第二图之光罩检查装置所进行之印模对印模检查法;第六图系第二图之光罩检查装置所进行之印模对印模检查法的时序图; |
