| 主权项 |
1.一种制备双金属氰化物(DMC)错合物催化剂之方法,该错合物在粉末X-射线绕射图谱上展现出于约5.1(d-间隔,埃)处实质上不具有锐线,该方法包含:(a)使水溶性金属盐之水溶液与水溶性金属氰化物盐之水溶液相混合并利用均质化或类似之高剪力混合,使之在一错合剂之添加下起反应,俾以生成含有一沈淀DMC错合物之水溶性混合物;以及(b)分离并乾燥该DMC错合物。2.一种制备双金属氰化物(DMC)错合物之方法,该错合物在粉末X-射线绕射图谱上展现出在约5.1(d-间隔,埃)处实质上不具有锐线,该方法包含将一错合剂加入一水溶性金属盐水溶液及一金属氰化物盐水溶液中之一或二者中;以及令该等水溶液进行反应,以生成一沈淀之DMC错合物,且其中该金属氰化物盐溶液系被添加于该金属盐溶液中。3.如申请专利范围第1或2项之方法,其中该DMC错合物催化剂为六氰化钴酸锌。4.如申请专利范围第1或2项之方法,其中该错合剂系选自于乙醇、异丙醇、第三丁基醇、第二丁基醇、正丁醇、异丁醇或此等之混合物所构成的群组中。5.一种双金属氰化物催化剂,其适于作为环氧化物之聚合催化剂,且系可得自于申请专利范围第1或2项之方法,并包含至少70重量%之实质非晶形双金属氰化物(DMC)错合物,其中当该催化剂系利用单色CuK1光源(=1.54095),使用一具电源设于40kV与30mA、设定扫描模式为0.022、扫描时间为2秒/步骤、与单色仪连接之绕射仪发散狭缝为1及检测器孔隙分别为0.05与0.15的Siemens D500 Kristalloflex绕射仪,而以粉末X-射线绕射进行分析时,该催化剂于粉末X-射线绕射图谱上展现出在约5.1 (d-间隔,埃)处实质上不具有锐线。6.如申请专利范围第5项之双金属氰化物催化剂,其于该X-射线绕射图谱上约5.1及3.6(d-间隔,埃)处实质上不具有锐线。7.如申请专利范围第5项之双金属氰化物催化剂,其于该X-射线绕射图谱上约5.1.3.6及2.5(d-间隔,埃)处实质上不具有锐线。8.如申请专利范围第5项之双金属氰化物催化剂,其于该X-射缘绕射图谱上约5.1.3.6.2.5及2.3(d-间隔,埃)处实质上不具有锐线。9.如申请专利范围第5至8项中任一项之方法,其中该错合剂系选自于乙醇、异丙醇、第三丁基醇、第二丁基醇、正丁醇、异丁醇或此等之混合物所构成的群组中。10.如申请专利范围第5项之双金属氰化物催化剂,其在实质上不含有结晶形DMC化合物。11.如申请专利范围第5项之双金属氰化物催化剂,其有至多约5重量%之实质结晶形DMC化合物。12.如申请专利范围第5项之双金属氰化物催化剂,其有至多约30重量%之实质结晶形DMC化合物。13.如申请专利范围第5.6.7.8.10.11及12项中任一项之双金属氰化物催化剂,其中该双金属氰化物催化剂为六氰化钴酸锌。14.如申请专利范围第9项之双金属氰化物催化剂,其中该双金属氰化物催化剂为六氰化钴酸锌。15.如申请专利范围第5.6.7.8.10.11及12项中任一项之双金属氰化物催化剂,其实质上为非晶形。16.如申请专利范围第9项之双金属氰化物催化剂,其实质上为非晶形。图式简单说明:第一图是表示使用本发明之催化剂250ppm,进行聚合反应的过程,将氧化丙烯的消耗量与反应时间加以作图。从延伸的基准线所得到的截距与斜率,可以测试出整个反应的诱导时间,此将在第六个实施例中加以讨论。第二图-第十图系各种不同双金属氰化物化合物之粉末x-射线绕射图示。 |
