发明名称 气体供给系之水分除去方法
摘要 本发明系关于气体供给系之水分除去方法,尤其与不用加热烘乾法,而藉常温排气处理有效地去除吸附水分之气体供给系之水分除去方法有关者。详言之,本发明之气体供给系之水分除去方法,系使除去水分用气体流通在气体供给系中,俾除去残留在气体供给系内部之水分的方法,其特征为:水分除去用气体之流通压力系设定在该气体流形成粘性流时之最小压力以上,且又设定在水分除去用气体在其流通温度时之水的饱和蒸汽压以下。另,前述水分除去用气体成为粘性流之条件,可从气体分子之平均自由行程将小于气体供给系之配管直径者予以判断。在这样的条件下将水分除去用气体予以常温排放时,即可有效去除在配管里面和阀、过滤器内之吸附水分。
申请公布号 TW470839 申请公布日期 2002.01.01
申请号 TW089118746 申请日期 2000.09.13
申请人 富士金股份有限公司 发明人 池田信一;森本明弘;皆见幸雄;本井传晃央;川田幸司;米华克典;平井畅;山路道雄
分类号 F16T1/00 主分类号 F16T1/00
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 2.如申请专利范围第1项之气体供给系之水分除去方法,其中前述水分除去用气体形成粘性流之条件,在于其气体分子之平均自由行程较气体供给系之配管直径为小者为其判断之基础。3.如申请专利范围第1项之气体供给系之水分除去方法,其中前述水分除去用气体系为惰性气体。4.如申请专利范围第1项之气体供给系之水分除去方法,其中将气体供给系,做成含有过滤器及阀在内之气体供给系。5.如申请专利范围第1项之气体供给系之水分除去方法,其中将气体供给系做成含有过滤器和压力调整器和流量调整器和阀在内之气体供给系。6.如申请专利范围第1项之气体供给系之水分除去方法,其中将气体供给系做成在气体供给系之末端与流量调整器之上游侧处设有水分除去用气体之排放口之气体供给系者。7.一种气体供给系之水分除去方法,尤指于使除去水分用气体流通在气体供给系中,俾除去残留在气体供给系内部之水分的方法,其特征为:除连续排放气体供给系内部之气体外,同时将供给与气体供给系内部之水分除去用气体按规定之时距予以断续者。8.如申请专利范围第7项之气体供给系之水分除去方法,其中当断绝欲供给与气体供给系内部之水分除去用气体之期间,藉排放气体,使气体供给系内部之水分除去用气体之流通压力成为气体流形成粘性流之最小压力和在水分除去用气体之流通温度内之水的饱和蒸汽压力间之压力値。9.如申请专利范围第7项之气体供给系之水分除去方法,其中将供给与气体供给系内部之水分除去用气体的供给压力设于100-4500托(Torr)者。10.如申请专利范围第7项之气体供给系之水分除去方法,其中将来自供给源之水分除去用气体,于气体供给系之一次侧不经气体流量之调整即供给与气体供给系之内部。11.如申请专利范围第7项之气体供给系之水分除去方法,其中将欲供给与气体供给系内部之水分除去用气体方法,以流通时间为0.9-5秒钟及切断流通时间为0.3-175秒钟之比例,使其反覆断续者。图式简单说明:第一图系与本发明之第1实施形态有关之气体供给系的构成图。第二图为将属物理性的诸条件予以具体化之试验例详细图。第三图系属经各种冲洗后残留水分浓度之比较图。第四图表示与本发明之第2实施形态有关之气体供给系的构成图。第五图表示使用第四图中之气体供给系,分别以10分钟,30分钟,及60分钟之时间进行从两处排气之粘性流冲洗时,其残留水分浓度之比较图。第六图表示,于实质上和第四图相同之气体供给系中,就使用在排气中将水分除去用气体之供给予以断、续之冲洗方法之情形,和使用其他之冲洗方法之情形,针对其残留水分浓度所做之比较图。第七图系在断续水分除去用气体之供给所进行之冲洗方法中,改变其断续之周期数的情形下所得残留水分浓度之比较图。第八图表示,在断续水分除去用气体之供给所进行之冲洗方法中,就调整从一次供供给之水分除去用气体之供给流量的情形,与未予调整的情形,针对其残留水分浓度之所做的比较图。
地址 日本