发明名称 溅镀轮廓模拟方法
摘要 本发明提出一种可以缩短计算时间之溅镀轮廓模拟方法。此方法包含下列步骤;计算从一溅镀靶所放射出之粒子的溅镀轨道;将该溅镀轨道投影到一或多个第一平面;从一平行于一该第一平面之第二平面上得出接触窗孔的轮廓;定义两个防止该粒子到达薄膜成长计算座标点之遮蔽点;及从投影到该第一平面之溅镀粒子轨道中,判定两条线之间的溅镀轨道为薄膜成长有效轨道,该两条线使薄膜成长计算座标点与各该遮蔽点相连接。
申请公布号 TW470781 申请公布日期 2002.01.01
申请号 TW088104529 申请日期 1999.03.22
申请人 电气股份有限公司 发明人 山田裕明
分类号 C23C14/34;G06F17/00 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人 周良谋 新竹巿东大路一段一一八号十楼;周良吉 台北市长春路二十号三楼
主权项 1.一种电脑化溅镀轮廓模拟方法,此方法包含下列 步骤: 计算从一溅镀靶所放射出之粒子的溅镀轨道; 将该溅镀轨道投影到一或多个第一平面; 从一平行于一该第一平面之第二平面上得出接触 窗孔的轮廓; 定义两个防止该粒子到达薄膜成长计算座标点之 遮蔽点;及 从投影到该第一平面之溅镀粒子轨道中,判定两条 线之间的溅镀轨道为薄膜成长有效轨道,该两条线 使薄膜成长计算座标点与各该遮蔽点相连接。2. 如申请专利范围第1项所述之电脑化溅镀轮廓模拟 方法,其中该溅镀轨道所投影到之该一或多个第一 平面在XYZ座标系统中为一XZ平由与一YZ平面。3.如 申请专利范围第2项所述之电脑化溅镀轮廓模拟方 法,更包含下列步骤: 在平行于XY平面之一平面上产生一圆,其直径由二 遮蔽点所定义; 计算包含该圆之平面与确定为薄膜成长有效轨道 的溅镀轨道之交点;及 若该交点位于该圆之外,判定该轨道对于薄膜成长 为无效。4.如申请专利范围第1项所述之电脑化溅 镀轮廓模拟方法,更包含下列步骤: 依据投影在该平面之溅镀轨道与该平面两相互垂 直轴其中之一的夹角将溅镀轨道分类;及 从分类的轨道中选择薄膜成长有效轨道。5.如申 请专利范围第4项所述之电脑化溅镀轮廓模拟方法 ,更包含下列步骤: 将分类之轨道区分为多数个群; 判断位于每群界线之轨道是否位于连接该薄膜成 长计算座标点到各该二遮蔽点的二条直线之间; 选定二群,分别具有二界线定义该群的范围,该二 界线其中之一系位于该二条直线之间的轨道;及 判定位于被选定此二群之间的群内之溅镀轨道属 于必须监定的溅镀轨道。6.一种电脑化溅镀轮廓 模拟方法,此方法包含下列步骤: 把采用Monto Carlo法计算而得之溅镀粒子轨道投影 到XZ平面; 依与X轴夹角x递增的顺序将溅镀粒子轨道分类; 将溅镀粒子轨道投影到一YZ平面; 依与Y轴夹角y递增的顺序将溅镀粒子轨道分类; 沿接触窗孔中心线取得接触窗孔之横剖面,在XZ平 面可制作出连接轮廓座标点的连线资料; 计算YZ平面上Y轴和连接成长轮廓点与表面轮廓顶 端角间的直线两者之间的夹角3; 从溅镀粒子轨道中选出符合3≦y≦-3之溅 镀粒子轨道; 选择一用于遮蔽判断的座标点,并求出此座标点与 接触窗孔对称轴的距离R; 计算XZ平面上之二夹角1与2,1为连接成长轮 廓点与遮蔽判断轮廓点的线段以及X轴之间的夹角 ,2为连接成长轮廓点与相对于Z轴和遮蔽判断点 成对称点的线段以及X轴之间的夹角;及 选择1≦x≦2的溅镀粒子轨道。7.如申请专 利范围第6项所述之电脑化溅镀轮廓模拟方法,更 包含下列步骤: 将被选定之一溅镀粒子指向座标点以进行薄膜成 长计算; 计算从包含遮蔽判断座标点之水平平面与溅镀粒 子轨道之交点到对称轴之距离r;及 若r大于R,则不计算薄膜成长,若r<R,把用于薄膜成 长计算之座标点移入轨道的方向,且计算薄膜成长 ,R为用于遮蔽判断轮廓点到接触窗孔对称轴的距 离,r为遮蔽判断平面与溅镀粒子轨道之交点到对 称轴之距离。8.一种储存于储存载体用来以电脑 模拟溅镀轮廓的电脑程式产品,其中该电脑包含一 处理器及储存程式的储存载体,该程式使该电脑执 行: 计算从一溅镀靶所放射出之粒子的溅镀轨道; 将该溅镀轨道投影到一或多个第一平面; 从一平行于一该第一平面之第二平面上得出接触 窗孔的轮廓; 定义两个防止该粒子到达薄膜成长计算座标点之 遮蔽点;及 从投影到该第一平面之溅镀粒子轨道中,判定两条 线之间的溅镀轨道为薄膜成长有效轨道,该两条线 使薄膜成长计算座标点与各该遮蔽点相连接。9. 如申请专利范围第8项所述之电脑程式产品,其中 该溅镀轨道所投影到之该一或多个第一平面在XYZ 座标系统中为一XZ平面与一YZ平面。10.如申请专利 范围第9项所述之电脑程式产品,其中该电脑程式 使该电脑更进一步执行: 在平行于XY平面之一平面上产生一圆,其直径由二 遮蔽点所定义; 计算包含该圆之平面与确定为薄膜成长有效轨道 的溅镀轨道之交点;及 若该交点位于该圆之外,判定该轨道对于薄膜成长 为无效。11.如申请专利范围第8项所述之电脑程式 产品,其中该电脑程式使该电脑更进一步执行: 依据投影在该平面之溅镀轨道与该平面两相互垂 直轴其中之一的夹角将溅镀轨道分类;及 从分类的轨道中选择薄膜成长有效轨道。图式简 单说明: 第一图为本发明第一实施例之流程图的前半部份 。 第二图为本发明第一实施例之流程图的后半部份 。 第三图为一接触窗孔之二维横剖面图。 第四图为一接触窗孔之二维横剖面图。 第五图为投影到一二维平面之溅镀粒子轨道的投 影资料其示意简图。 第六图为投影到一二维平面之溅镀粒子轨道的投 影资料其示意简图。 第七图为类三维遮蔽判断的示意简图。 第八图为本发明第二实施例中投影到一二维平面 之溅镀粒子轨道的投影资料其示意简图。
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