| 发明名称 |
Beschichtungskammer, Substratträger hierfür, Verfahren zum Vakuumbedampfen sowie Beschichtungsverfahren. |
| 摘要 |
In order to maintain a required minimal variation of angle of incidence (a) of a coating material on a flat substrate (3), it is recommended that the substrate (3) be exposed to the evaporation source (1) clamped in a curved position. |
| 申请公布号 |
CH692000(A5) |
申请公布日期 |
2001.12.31 |
| 申请号 |
CH19950003204 |
申请日期 |
1995.11.13 |
| 申请人 |
UNAXIS BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
DUBS MARTIN |
| 分类号 |
C23C14/50;H01L21/683 |
主分类号 |
C23C14/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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