发明名称 Vacuum deposition and curing of oligomers and resins
摘要 본 발명은 진공하의 고체 중합체 층의 형성 방법에 관한 것이다. 더욱 구체적으로는, 본 발명은 진공하에 대기 환경하에서 일반적으로 사용되고, 액체 물질을 진공으로 도입하기 전에 탈기시키는 "표준" 중합체 층-제조 장치의 용도에 관한 것이다. 중합체 또는 비중합체의 추가의 층들은 고체 중합체 층 상에 진공 증착될 수 있다. 진공하에 중합체 층을 형성하면 물질 및 표면 특성, 및 추가의 층에 대한 후속적인 결합 특성을 향상시킨다. 추가의 잇점에는 경화, 신속한 경화 동안 광개시제를 소량 내지 전혀 사용하지 않고, 중합체 전해질에 보다 적은 불순물이 포함될 뿐만 아니라, 트랩핑된 가스를 전혀 포함하지 않는 물질 특성을 개선시켜, 밀도를 보다 크게 하고, 물질의 산포성을 촉진시키고 보다 매끄럽게 마무리된 표면을 제공하는 물질 습윤각을 감소시킨다는 점이 포함된다.
申请公布号 KR20010114238(A) 申请公布日期 2001.12.31
申请号 KR20017012486 申请日期 2001.09.28
申请人 发明人
分类号 B05D3/04;B29C39/10;B29C39/12;B29C70/68;C08F2/00;C23C14/12;H01M6/18;H01M10/40 主分类号 B05D3/04
代理机构 代理人
主权项
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