| 摘要 |
<p>큰 직경을 갖는 반도체 웨이퍼 또는 대면적의 평판 디스플레이용 유리 기판에서도 증착 및 식각의 균일도을 확보할 수 있는 플라즈마 반응기의 전극 설계(electrode design)가 개시된다. 본 발명은 대면적의 플라즈마 프로세싱을 위한 플라즈마 반응기(plasma reactor)에서, 기판을 지지하기에 적합하며, 고주파(RF) 에너지의 단일 전원에 접속된 제1 전극과, 상기 제1 전극으로부터 소정거리 이격되어 설치되며, 그 전극 구조가 독립적인 복수개의 사각뿔 형상으로 설계된 제2 전극을 포함하며, 상기 각 사각뿔 형상의 제2 전극에 RF 전원을 독립적으로 인가하도록 구성함으로써, 플라즈마 균일성을 향상시킴과 아울러 파워 밀도(power density)를 향상시킬 수 있다.</p> |
