发明名称 INDUCTIVELY COUPLED PLASMA APPARATUS
摘要 <p>본 발명은, 유도결합형 플라즈마장치에 관한 것으로, 본 발명에 따른 자장강화된 유도결합형 플라즈마장치는, 플라즈마에 의한 소정 처리를 위한 적어도 하나의 시편을 수용하는 직사각형 단면을 갖는 반응챔버와; 상기 반응챔버 내에 플라즈마를 발생시키기 위해 상기 반응챔버 내에 RF소스전력을 제공하기 위한 유도수단과; 상기 반응챔버 내에 상기 플라즈마를 가두기 위한 자기장을 제공하는 상기 반응챔버 내측에 설치된 자기장발생수단을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해 플라즈마의 높은 균일도, 밀도 및 식각속도를 얻을 수 있는 유도결합형 플라즈마장치가 제공된다.</p>
申请公布号 KR100318690(B1) 申请公布日期 2001.12.28
申请号 KR19990009408 申请日期 1999.03.19
申请人 염근영;우형철 发明人 염근영
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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