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发明名称 EDGE EXPOSURE UNIT HAVING WAFER ECCENTRICITY CORRECTING APPARATUS
摘要
申请公布号 KR20010113156(A) 申请公布日期 2001.12.28
申请号 KR20000033301 申请日期 2000.06.16
申请人 DNS KOREA CO., LTD. 发明人 LEE, JAE SEONG;NAM, GI SEON
分类号 (IPC1-7):H01L21/027 主分类号 (IPC1-7):H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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