发明名称 VERTICAL TRANSISTOR COMPRISING A MOBILE GATE AND A METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
摘要 Vorgeschlagen wird ein aus einem Halbleiterwafer (1) gefertigter Vertikal-Feldeffekttransistor, mit einem Resttransistor bestehend aus einem Source Bereich (42), einem Kanalgebiet (3) und einem Drain (1) Bereich sowie einer mittels mindestens einer flexiblen Aufhängung (7) vor dem Kanalgebiet (3) beabstandet angeordneten beweglichen Gatestruktur (8), dadurch gekennzeichnet, dass die bewegliche Gatestruktur (8) aus dem Material des Halbleiterwafers (1) besteht. Die Aufhängungen (7) der beweglichen Struktur (8) haben bevorzugt ein grosses Verhältnis von Höhe zu deren Breite, wodurch das bewegliche Gate (8) sich bevorzugt in der Waferebene bewegen kann (15).
申请公布号 WO0198200(A1) 申请公布日期 2001.12.27
申请号 WO2001EP04702 申请日期 2001.04.26
申请人 FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.;GESSNER, THOMAS;BERTZ, ANDREAS;HEINZ, STEFFEN 发明人 GESSNER, THOMAS;BERTZ, ANDREAS;HEINZ, STEFFEN
分类号 B81B3/00;G01L9/00;G01P15/08;G01P15/12;H01L21/336;H01L29/78;H01L29/84;(IPC1-7):B81B3/00;B81C1/00 主分类号 B81B3/00
代理机构 代理人
主权项
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