发明名称 蚀刻溶液,蚀刻制品和制造蚀刻制品的方法
摘要 一种蚀刻溶液,其对热氧化膜(THOX)和硼磷玻璃膜(BPSG)的蚀刻速率在25℃为100埃/分钟或略低,蚀刻速率的比值:BPSG的蚀刻速率/THOX的蚀刻速率的值为1.5或更小。
申请公布号 CN1328697A 申请公布日期 2001.12.26
申请号 CN99813593.3 申请日期 1999.11.22
申请人 大金工业株式会社 发明人 毛塚健彦;陶山诚;板野充司
分类号 H01L21/306;H01L21/308;C09K13/08 主分类号 H01L21/306
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人 王维玉;丁业平
主权项 1.一种蚀刻溶液,其对热氧化物膜(THOX)和磷硅酸硼玻璃膜(BPSG)的蚀刻速率在25℃为100埃/分钟或略低,蚀刻速率的比值:(BPSG的蚀刻速率)/(THOX的蚀刻速率)的比值为1.5或更小。
地址 日本大阪府