发明名称 复合聚焦高能密度光束熔覆设备及熔覆方法
摘要 本发明属于材料加工技术领域,包括装在一壳体中的5kW风冷式氙灯及其触发系统、冷却系统,由椭球面反光镜和凸透镜组成的二级聚焦系统,以及稳流电源,和水平移动工件台;该氙灯、反光镜和透镜的光轴重合且光轴垂直于工件台,还包括设置在所说的凸透镜下端的双层气流熔覆喷嘴,本发明不仅熔覆设备成本低,熔覆工艺简单,熔覆效率高,具有低成本、低消耗、无污染特点,而且通过能量密度的提高显著地改善了熔覆层的组织和性能。
申请公布号 CN1328174A 申请公布日期 2001.12.26
申请号 CN01109417.6 申请日期 2001.03.09
申请人 清华大学 发明人 单际国;吴爱萍;任家烈;张迪
分类号 C23C24/10 主分类号 C23C24/10
代理机构 北京清亦华专利事务所 代理人 廖元秋
主权项 1、一种复合聚焦高能密度光束熔覆设备,包括组装在一壳体中的5kW风冷式氙灯及其触发系统、冷却系统、光学聚焦单元,以及通过电缆与氙灯及其触发系统相连的稳流电源,和置于该壳体下方的水平移动工件台;其特征在于,所说的光学聚焦单元采用由椭球面反光镜和凸透镜组成的二级聚焦系统,所说的氙灯、反光镜和透镜的光轴重合且光轴垂直于工件台,所说的氙灯置于一级聚焦系统反光镜的近焦点处,所说的凸透镜置于一水冷套中,还包括设置在所说的凸透镜水冷套下端的双层气流熔覆喷嘴,该双层气流熔覆喷嘴由一中空圆柱及气泵构成,该圆柱壁内设置有相互独立的两个环行的水平气体通道和垂直气体通道,该两个气体通道的进气口与所说的气泵相连,该两个气体通道的出气口分别开置在圆柱内壁上和圆柱的底面上。
地址 100084北京市海淀区清华园