发明名称 METHOD OF MAKING METAL OXIDE AND CONTACT STRUCTURE IN INTEGRATED CIRCUIT INCLUDING ETCH STOP LAYER
摘要
申请公布号 KR20010113011(A) 申请公布日期 2001.12.24
申请号 KR1020010033434 申请日期 2001.06.14
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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