| 主权项 |
1.一种洁净终点侦测设备,用以侦测洁净制程之终点,于其中:藉由将洁净气体导入至该反应室,以在该反应室内产生一种由该杂质之一部份与该洁净气体之反应作用所产生的烟云团,且从该内壁卸下该杂质之其余部份成为分离微粒;并藉由将该烟云团和该分离微粒与该洁净气体一起从该反应室排放出,使得附着于反应室(1)之内壁的杂质系被移除,该设备包含:照射装置(5)用以将雷射光束照射在该反应室内之该烟云团与该分离微粒之上,以产生由该烟云团与该分离微粒所散射之散射雷射光束;监视装置(7),用以监视该散射雷射光束以作为二维影像资讯;以及判断装置(8),用以基于该二维影像资讯,判断洁净制程之该终点。2.如申请专利范围第1项之洁净终点侦测设备,其中,该判断装置系基于该二维影像资讯而在不再侦测到该分离微粒与该烟云团时,判断一时间瞬间以作为洁净制程之该终点。3.如申请专利范围第2项之洁净终点侦测设备,其中,该判断装置系在具有预定尺寸之预定尺寸的微粒之密度被减少到预定密度时,判断一时间瞬间以作为洁净制程之该终点,该预定尺寸实质上系等于该烟云团之微粒尺寸。4.如申请专利范围第3项之洁净终点侦测设备,其中,该预定尺寸系不大于20nm。5.如申请专利范围第1项之洁净终点侦测设备,其中,该监视装置包含一台CCD(电荷耦合装置)照相机。6.一种洁净终点侦测方法,用以侦测洁净制程之终点,于其中:藉由将洁净气体导入至该反应室,以在该反应室内产生一种由该杂质之一部份与该洁净气体之反应作用所产生的烟云团,且从该内壁卸下该杂质之其余部份成为分离微粒;并藉由将该烟云团和该分离微粒与该洁净气体一起从该反应室排放出,使得附着于反应室(1)之内壁的杂质系被移除,该方法包含以下步骤:将雷射光束照射在该反应室内之该烟云团与该分离微粒之上,以产生由该烟云团与该分离微粒所散射之散射雷射光束;监视该散射雷射光束以作为二维影像资讯;以及基于该二维影像资讯,判断洁净制程之该终点。7.如申请专利范围第6项之洁净终点侦测方法,其中,该判断装置系基于该二维影像资讯而在不再侦测到该分离微粒与该烟云团时,判断一时间瞬间以作为洁净制程之该终点。8.如申请专利范围第7项之洁净终点侦测方法,其中,该判断装置系在具有预定尺寸之预定尺寸的微粒之密度被减少到预定密度时,判断一时间瞬间以作为洁净制程之该终点,该预定尺寸实质上系等于该烟云团之微粒尺寸。9.如申请专利范围第8项之洁净终点侦测方法,其中,该预定尺寸系不大于20nm。图式简单说明:第一图显示依据本发明之洁净终点侦测设备;第二图显示藉由第一图所示之洁净终点侦测设备之散射光束监视单元而获得之监视影像;第三图显示类似于第二图所示之另一种监视影像;第四图系为说明依据本发明之洁净终点侦测方法之流程图;以及第五图系为说明依据本发明之另一种洁净终点侦测方法之流程图。 |
