发明名称 逻辑闸单元
摘要 本发明系提供一种小面积与低功率消耗之逻辑闸单元,其电路具两反相逻辑闸串连于四层扩散区中而形成。第二反相逻辑闸系由两小电晶体于内部两层扩散区中形成第二反相逻辑闸系由两小电晶体于外部两层扩散区中形成,此第二反相逻辑闸之输出布线系由第二金属层布线所形成,故此第二金属层布线延伸并覆盖于第一反相逻辑闸上。
申请公布号 TW469628 申请公布日期 2001.12.21
申请号 TW088121286 申请日期 1999.12.06
申请人 AIL股份有限公司 发明人 泷和男
分类号 H01L27/02 主分类号 H01L27/02
代理机构 代理人 洪澄文 台北巿信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种逻辑闸单元,作为透过CMOS制程之LSI中之元件,其所具电路组成包括两反相逻辑闸(1.2),其中一第一反相逻辑闸(1)之输出连接一第二反相逻辑闸(2)之输入,且具一单井(19)形成一P型MOS电晶体于一单元布局中,该井(19)置于该单元布局之上部,其中,该逻辑闸单元之第一特征为在该井(19)中具一第一扩散区(11)与一第二扩散区(12),用以形成一P型MOS电晶体,该第二扩散区位于该第一扩散区下方,一第三扩散区(13)与一第四扩散区(14),位于该井(19)之下方与外侧,用以形成一N型MOS电晶体,该第四扩散区位于该第三扩散区下方;第二特征为该第一反相逻辑闸(1)由该第二扩散区(12)与该第三扩散区(13)形成,该第二反相逻辑闸(2)由该第一扩散区(11)与该第四扩散区(14)形成;以及第三特征为一布线(37),其亦可作为该第二反相逻辑闸(2)之一输出部分之布线,用以内连该P型与该N型电晶体,其可部分或全部由一第二金属层布线(9)形成,该第二金属布线层(9)延展于第二扩散层(12)与第三扩散层(13)。2.如申请专利范围第1项所述之逻辑闸单元,其中一布线(38),其亦可作为该第一反相逻辑闸(1)之一输出部分之布线,用以内连该P型与该N型电晶体,其可由一第一金属层布线(8)形成,其中该第二反相逻辑闸(2)之输出部分之该第二金属布线层(9)延展于第一金属层布线(8)。3.如申请专利范围第1项所述之逻辑闸单元,其中该第二反相逻辑闸(2)之输入部分连接该第一反相逻辑闸(1)之一输出部分,该P型MOS电晶体之一闸极多晶布线(6)经该第一反相逻辑闸(1)之输出部分之该第一金属层布线(8)内连至该N型MOS电晶体之一闸极多晶布线(7)。4.如申请专利范围第2项所述之逻辑闸单元,其中该第二反相逻辑闸(2)之一输入部分连接该第一反相逻辑闸(1)之一输出部分,该P型MOS电晶体之一闸极多晶布线(6)经该第一反相逻辑闸(1)之输出部分之该第一金属层布线(8)内连至该N型MOS电晶体之一闸极多晶布线(7)。5.如申请专利范围第1项所述之逻辑闸单元,其中该第二反相逻辑闸(2)中该P型MOS电晶体之一闸极宽度被设定宽于该第一反相逻辑闸(1)中该P型MOS电晶体之一部极宽度,且其中该第二反相逻辑闸(2)中该N型MOS电晶体之一闸极宽度被设定宽于该第一反相逻辑闸(1)中该N型MOS电晶体之一闸极宽度。6.如申请专利范围第2项所述之逻辑闸单元,其中该第二反相逻辑闸(2)中该P型MOS电晶体之一闸极宽度被设定宽于该第一反相逻辑闸(1)中该P型MOS电晶体之一部极宽度,且其中该第二反相逻辑闸(2)中该N型MOS电晶体之一闸极宽度被设定宽于该第一反相逻辑闸(1)中该N型MOS电晶体之一闸极宽度。7.如申请专利范围第3项所述之逻辑闸单元,其中该第二反相逻辑闸(2)中该P型MOS电晶体之一闸极宽度被设定宽于该第一反相逻辑闸(1)中该P型MOS电晶体之一部极宽度,且其中该第二反相逻辑闸(2)中该N型MOS电晶体之一闸极宽度被设定宽于该第一反相逻辑闸(1)中该N型MOS电晶体之一闸极宽度。8.如申请专利范围第4项所述之逻辑闸单元,其中该第二反相逻辑闸(2)中该P型MOS电晶体之一闸极宽度被设定宽于该第一反相逻辑闸(1)中该P型MOS电晶体之一部极宽度,且其中该第二反相逻辑闸(2)中该N型MOS电晶体之一闸极宽度被设定宽于该第一反相逻辑闸(1)中该N型MOS电晶体之一闸极宽度。9.如申请专利范围第1项所述之逻辑闸单元,其中每一该两反相逻辑闸(1,2)为有二至四输入端之一NOT闸或一NAND闸、或为为有二至四输入端之一NOR闸、或为有三至四输入端之一AND-NOR闸、或为有三至四输入端之一OR-NAND闸。10.如申请专利范围第2项所述之逻辑闸单元,其中每一该两反相逻辑闸(1,2)为有二至四输入端之一NOT闸或一NAND闸、或为为有二至四输入端之一NOR闸、或为有三至四输入端之一AND-NOR闸、或为有三至四输入端之一OR-NAND闸。11.如申请专利范围第3项所述之逻辑闸单元,其中每一该两反相逻辑闸(1,2)为有二至四输入端之一NOT闸或一NAND闸、或为为有二至四输入端之一NOR闸、或为有三至四输入端之一AND-NOR闸、或为有三至四输入端之一OR-NAND闸。12.如申请专利范围第4项所述之逻辑闸单元,其中每一该两反相逻辑闸(1,2)为有二至四输入端之一NOT闸或一NAND闸、或为为有二至四输入端之一NOR闸、或为有三至四输入端之一AND-NOR闸、或为有三至四输入端之一OR-NAND闸。13.如申请专利范围第5项所述之逻辑闸单元,其中每一该两反相逻辑闸(1,2)为有二至四输入端之一NOT闸或一NAND闸、或为为有二至四输入端之一NOR闸、或为有三至四输入端之一AND-NOR闸、或为有三至四输入端之一OR-NAND闸。14.如申请专利范围第6项所述之逻辑闸单元,其中每一该两反相逻辑闸(1,2)为有二至四输入端之一NOT闸或一NAND闸、或为为有二至四输入端之一NOR闸、或为有三至四输入端之一AND-NOR闸、或为有三至四输入端之一OR-NAND闸。15.如申请专利范围第7项所述之逻辑闸单元,其中每一该两反相逻辑闸(1,2)为有二至四输入端之一NOT闸或一NAND闸、或为为有二至四输入端之一NOR闸、或为有三至四输入端之一AND-NOR闸、或为有三至四输入端之一OR-NAND闸。16.如申请专利范围第8项所述之逻辑闸单元,其中每一该两反相逻辑闸(1,2)为有二至四输入端之一NOT闸或一NAND闸、或为为有二至四输入端之一NOR闸、或为有三至四输入端之一AND-NOR闸、或为有三至四输入端之一OR-NAND闸。17.如申请专利范围第9项所述之逻辑闸单元,其中该第二反相逻辑闸(2)为NOT闸。18.如申请专利范围第10项所述之逻辑闸单元,其中该第二反相逻辑闸(2)为NOT闸。19.如申请专利范围第11项所述之逻辑闸单元,其中该第二反相逻辑闸(2)为NOT闸。20.如申请专利范围第12项所述之逻辑闸单元,其中该第二反相逻辑闸(2)为NOT闸。21.如申请专利范围第13项所述之逻辑闸单元,其中该第二反相逻辑闸(2)为NOT闸。22.如申请专利范围第14项所述之逻辑闸单元,其中该第二反相逻辑闸(2)为NOT闸。23.如申请专利范围第15项所述之逻辑闸单元,其中该第二反相逻辑闸(2)为NOT闸。24.如申请专利范围第16项所述之逻辑闸单元,其中该第二反相逻辑闸(2)为NOT闸。25.如申请专利范围第17项所述之逻辑闸单元,其中形成该第二反相逻辑闸(2)之该NOT闸之每一该P型与该N型电晶体系由两平行连接之MOS电晶体所组成。26.如申请专利范围第18项所述之逻辑闸单元,其中形成该第二反相逻辑闸(2)之该NOT闸之每一该P型与该N型电晶体系由两平行连接之MOS电晶体所组成。27.如申请专利范围第19项所述之逻辑闸单元,其中形成该第二反相逻辑闸(2)之该NOT闸之每一该P型与该N型电晶体系由两平行连接之MOS电晶体所组成。28.如申请专利范围第20项所述之逻辑闸单元,其中形成该第二反相逻辑闸(2)之该NOT闸之每一该P型与该N型电晶体系由两平行连接之MOS电晶体所组成。29.如申请专利范围第21项所述之逻辑闸单元,其中形成该第二反相逻辑闸(2)之该NOT闸之每一该P型与该N型电晶体系由两平行连接之MOS电晶体所组成。30.如申请专利范围第22项所述之逻辑闸单元,其中形成该第二反相逻辑闸(2)之该NOT闸之每一该P型与该N型电晶体系由两平行连接之MOS电晶体所组成。31.如申请专利范围第23项所述之逻辑闸单元,其中形成该第二反相逻辑闸(2)之该NOT闸之每一该P型与该N型电晶体系由两平行连接之MOS电晶体所组成。32.如申请专利范围第24项所述之逻辑闸单元,其中形成该第二反相逻辑闸(2)之该NOT闸之每一该P型与该N型电晶体系由两平行连接之MOS电晶体所组成。33.如申请专利范围第17项所述之逻辑闸单元,还包括一电路,其中具由有二至四输入端之一NOT闸、一NAND闸、与有二至四输入端之一NOR闸其中之一形成之一第三反相逻辑闸(3),其中该第三反相逻辑闸(3)之一输出端连接至该第一反相逻辑闸(1)之一输入端,且该第三反相逻辑闸(3)由该第二扩散区(12)与该第三扩散区(13)所形成。34.如申请专利范围第25项所述之逻辑闸单元,还包括一电路,其中具由有二至四输入端之一NOT闸、一NAND闸、与有二至四输入端之一NOR闸其中之一形成之一第三反相逻辑闸(3),其中该第三反相逻辑闸(3)之一输出端连接至该第一反相逻辑闸(1)之一输入端,且该第三反相逻辑闸(3)由该第二扩散区(12)与该第三扩散区(13)所形成。35.一种LSI,其特征在于包括如申请专利范围第1项所述之至少一逻辑闸单元。36.一种LSI,其特征在于包括如申请专利范围第2项所述之至少一逻辑闸单元。37.一种LSI,其特征在于包括如申请专利范围第3项所述之至少一逻辑闸单元。38.一种逻辑闸单元,做为CMOS制程所制造之LSI之一元件,其包括一电路组合,由两反相逻辑闸(1.2)所构成,其中第一反相逻辑闸(1)之输出端连接其中第二反相逻辑闸(2)之输入端;一第一扩散区域(11)和一第二扩散区域(12),用以形成一P型MOS电晶体于一单元布局中;以及一第三扩散区域(13)和一第四扩散区域(14),用以形成一N型MOS电晶体于该单元布局中,该逻辑闸单元之第一特征在于:当形成该P型MOS电晶体之该等扩散区(11.12)系设置于该单元布局之上部时,则该第二扩散区(12)置于该第一扩散区(11)之下方,该第三扩散区(13)置于该第二扩散区(12)之下方,该第四扩散区(14)置于该第三扩散区(13)之下方;该逻辑闸单元之第二特征在于:该第一反相逻辑闸(1)系由该第二扩散区(12)和第三扩散区(13)所形成,该第二反相逻辑闸(2)系由该第一扩散区(11)和该第四扩散区(140)所形成;以及该逻辑库单元之第三特征在于:由一第二金属层布线(9)部分或全部所形成之布线(9),做为该第二反相逻辑闸(2)之输出部分的连线并且内连接该P型MOS电晶体和该N型MOS电晶体,其中该第二金属层布线(9)在该第二扩散区(12)和该第三扩散区(13)上延伸;由一第一金属层布线(8)所形成之布线(38),做为该第一反相逻辑闸(1)之输出部分的连线并且内连接该P型MOS电晶体和该N型MOS电晶体,其中该第二反相逻辑闸(2)之输出部分的该第二金属层布线(9)在该第一金属层布线(8)上延伸。39.如申请专利范围第38项所述之逻辑闸单元,其中该第二反相逻辑闸(2)之一输入部分连接该第一反相逻辑闸(1)之输出部分,该P型MOS电晶体之一闸极多晶布线(6)经该第一反相逻辑闸(1)之输出部分之该第一金属层布线(8)内连至该N型MOS电晶体之一闸极多晶布线(7)。40.如申请专利范围第38项所述之逻辑闸单元,其中该第二反相逻辑闸(2)之一输入部分连接该第一反相逻辑闸(1)之输出部分,该P型MOS电晶体之一闸极多晶布线(6)经该第一反相逻辑闸(1)之输出部分之该第一金属层布线(8)内连至该N型MOS电晶体之一闸极多晶布线(7)。41.如申请专利范围第38项所述之逻辑闸单元,其中该第二反相逻辑闸(2)中该P型MOS电晶体之一闸极宽度被设定宽于该第一反相逻辑闸(1)中该P型MOS电晶体之一闸极宽度,且其中该第二反相逻辑闸(2)中该N型MOS电晶体之一闸极宽度被设定宽于该第一反相逻辑闸(1)中该N型MOS电晶体之一闸极宽度。42.如申请专利范围第38项所述之逻辑闸单元,其中每一该两反相逻辑闸(1.2)为有二至四输入端之NOT闸或一NAND闸、或为为有二至四输入端之一NOR闸、或为有三至四输入端之一NAD-NOR闸、或为有三至四输入端之一OR-NAND闸。43.如申请专利范围第42项所述之逻辑闸单元,该第二反相逻辑闸(2)为NOT闸。44.如申请专利范围第43项所述之逻辑闸单元,其中形成该第二反相逻辑闸(2)之该NOT闸之每一该P型与该N型电晶体系由两平行连接之MOS电晶体所组成。45.如申请专利范围第43项所述之逻辑闸单元,还包括一电路,其中具由有二至四输入端之一NOT闸、一NAND闸、与有二至四输入端之一NOR闸其中之一形成之一第三反相逻辑闸(3),其中该第三反相逻辑闸(3)之一输出端连接至该第一反相逻辑闸(1)之一输入端,且该第三反相逻辑闸(3)由该第二扩散区(12)与该第三扩散区(13)所形成。46.如申请专利范围第44项所述之逻辑闸单元,还包括一电路,其中具由有二至四输入端之一NOT闸、一NAND闸、与有二至四输入端之一NOR闸其中之一形成之一第三反相逻辑闸(3),其中该第三反相逻辑闸(3)之一输出端连接至该第一反相逻辑闸(1)之一输入端,且该第三反相逻辑闸(3)由该第二扩散区(12)与该第三扩散区(13)所形成。47.一种LSI,其特征在于包括如申请专利范围第38项所述之至少一逻辑闸单元。图式简单说明:第一图A与第一图B系显示一反相逻辑闸(NOT),其中第一图A显示符号,第一图B显示电路;第二图A与第二图B系显示一反相逻辑闸(NADA),其中第二图A显示符号,第二图B显示电路;第三图A与第三图B系显示一反相逻辑闸(NOT),其中第三图A显示符号,第三图B显示电路;第四图A与第四图B系显示一反相逻辑闸(AND-NOR),其中第四图A显示符号,第四图B显示电路;第五图A与第五图B系显示一反相逻辑闸(AND-NOR),其中第五图A显示符号,第五图B显示电路;第六图A与第六图B系显示一反相逻辑闸(OR-NADA),其中第六图A显示符号,第六图B显示电路;第七图A与第七图B系显示一反相逻辑闸(OR-NADA),其中第七图A显示符号,第七图B显示电路;第八图A与第八图B系显示一两输入端之AND闸,其中第八图A显示符号,第八图B显示含NOT与NAND闸之电路实例;第十图系显示习知(AND)单元之布局;第十一图系显示习知(AND)单元之扩散区与复晶矽布线;第十二图系显示(AND)单元之第一金属层布线;第十三图系显示习知(AND)单元之第二金属层布线;第十四图系显示本发明(AND)单元之布局;第十五图系显示本发明(AND)单元之扩散区与复晶矽布线;第十六图系显示本发明(AND)单元之第一金属层布线;第十七图系显示本发明(AND)单元之第二金属层布线;第十八图A与第十八图B系显示一反相逻辑闸(NAND),其中第十八图A显示符号,第十八图B显示电路;第十九图系显示本发明中一(NAND)单元之电路;第二十图显示本发明中一(NAND)单元之布局;第二十一图显示本发明(NAND)单元之扩散区与复晶矽布线;第二十二图显示本发明(NAND)单元之第一层布线;第二十三图显示本发明(NAND)单元之第二层布线;第二十四图显示本发明中一(AND)单元之布局;第二十五图显示本发明(AND)单元之扩散区与复晶矽布线;第二十六图显示本发明(AND)单元之第一金属层布线;第二十七图显示本发明(AND)单元之第二金属层布线;第二十八图A显示本发明中一(两输入端AND)单元之布局;第二十八图B显示本发明(两输入端AND)单元之扩散区与复晶矽布线;第二十九图A显示本发明(两输入端AND)单元之第一金属层布线;第二十九图B显示本发明(两输入端AND)单元之第二金属层布线;第三十图A显示本发明中一(两输入端OR)单元之布局;第三十图B显示本发明(两输入端OR)单元之扩散区与复晶矽布线;第三十一图A显示本发明(两输入端OR)单元第一金属层布线;第三十一图B显示本发明(两输入端OR)单元第二金属层布线;第三十二图A与第三十二图B显示本发明一逻辑闸(OR),其中第三十二图A显示符号,第三十二图B显示电路;第三十三图系显示本发明中一(OR)单元之电路;第三十四图A显示本发明中一(三输入端OR)单元之布局;第三十四图B显示本发明(三输入端OR)单元之扩散区与复晶矽布线;第三十五图A显示本发明(三输入端OR)单元之第一金属层布线;第三十五图B显示本发明(三输入端OR)单元之第二金属层布线;第三十六图A与第三十六图B显示本发明一逻辑闸(AND-OR),其中第三十六图A显示符号,第三十六图B显示电路;第三十七图系显示本发明中一(AND-OR)单元之电路;第三十八图A显示本发明中一(三输入端AND-OR)单元之布局;第三十八图B显示本发明(三输入端AND-OR)单元之扩散区与复晶矽布线;第三十九图A显示本发明(三输入端AND-OR)单元之第一金属层布线;第三十九图B显示本发明(三输入端AND-OR)单元之第二金属层布线;第四十图A与第四十图B显示本发明一逻辑闸(OR-AND),其中第四十图A显示符号,第四十图B显示电路;第四十一图A显示本发明中一(三输入端OR-AND)单元之布局;第四十一图B显示本发明(三输入端OR-AND)单元之扩散区与复晶矽布线;第四十二图A显示本发明(三输入端OR-AND)单元之第一金属层布线;第四十二图B显示本发明(三输入端OR-AND)单元之第二金属层布线;第四十三图A显示本发明中一(三输入端AND)单元之布局;第四十三图B显示本发明(三输入端AND)单元之扩散区与复晶矽布线;第四十四图A显示本发明(三输入端AND)单元之第一金属层布线;第四十四图B显示本发明(三输入端AND)单元之第二金属层布线;第四十五图A显示本发明中一(四输入端AND)单元之布局;第四十五图B显示本发明(四输入端AND)单元之扩散区与复晶矽布线;第四十六图A显示本发明(四输入端AND)单元之第一金属层布线;第四十六图B显示本发明(四输入端AND)单元之第二金属层布线;第四十七图A显示本发明中一(四输入端AND-OR)单元之布局;第四十七图B显示本发明(四输入端AND-OR)单元之扩散区与复晶矽布线;第四十八图A显示本发明(四输入端AND-OR)单元之第一金属层布线;第四十八图B显示本发明(四输入端AND-OR)单元之第二金属层布线;第四十九图A与第四十九图B显示本发明一逻辑闸(AND-OR),其中第四十九图A显示符号,第四十九图B显示电路;第五十图系显示本发明中一(AND-OR)单元之电路;第五十一图A显示本发明中一(四输入端OR-AND)单元之布局;第五十一图B显示本发明(四输入端OR-AND)单元之扩散区与复晶矽布线;第五十二图A显示本发明(四输入端OR-AND)单元之第一金属层布线;第五十二图B显示本发明(四输入端OR-AND)单元之第二金属层布线;第五十三图A与第五十三图B显示本发明一逻辑闸(OR-AND),其中第五十三图A显示符号,第五十三图B显示电路;第五十四图A显示本发明中一(三输入端NOR)单元之布局;第五十四图B显示本发明(三输入端NOR)单元之扩散区与复晶矽布线;第五十五图A显示本发明(三输入端NOR)单元之第一金属层布线;第五十五图B显示本发明(三输入端NOR)单元之第二金属层布线;第五十六图A与第五十六图B显示本发明一逻辑闸(NOR),其中第五十六图A显示符号,第五十六图B显示电路;第五十七图系显示本发明中一(NOR)单元之电路;第五十八图A显示本发明中一(三输入端NAND)单元之布局;第五十八图B显示本发明(三输入端NAND)单元之扩散区与复晶矽布线;第五十九图A显示本发明(三输入端NAND)单元之第一金属层布线;第五十九图B显示本发明(三输入端NAND)单元之第二金属层布线;第六十图A与第六十图B显示本发明一逻辑闸(NAND),其中第六十图A显示符号,第六十图B显示电路;第六十一图A显示本发明中一(四输入端NAND)单元之布局;第六十一图B显示本发明(四输入端NAND)单元之扩散区与复晶矽布线;第六十二图A显示本发明(四输入端NAND)单元之第一金属层布线;第六十二图B显示本发明(四输入端NAND)单元之第二金属层布线;第六十三图A与第六十三图B显示本发明一逻辑闸(NAND),其中第六十三图A显示符号,第六十三图B显示电路;第六十四图系显示本发明中一(NAND)单元之电路;第六十五图A显示本发明中一(四输入端NOR)单元之布局;第六十五图B显示本发明(四输入端NOR)单元之扩散区与复晶矽布线;第六十六图A显示本发明(四输入端NOR)单元之第一金属层布线;第六十六图B显示本发明(四输入端NOR)单元之第二金属层布线;第六十七图A与第六十七图B显示本发明一逻辑闸(NOR),其中第六十七图A显示符号,第六十七图B显示电路;第六十八图A显示本发明中一(三输入端AND-NOR)单元之布局;第六十八图B显示本发明(三输入端AND-NOR)单元之扩散区与复晶矽布线;第六十九图A显示本发明(三输入端AND-NOR)单元之第一金属层布线;第六十九图B显示本发明(三输入端AND-NOR)单元之第二金属层布线;第七十图A与第七十图B显示本发明一逻辑闸(AND-NOR),其中第七十图A显示符号,第七十图B显示电路;第七十一图A显示本发明中一(三输入端OR-NAND)单元之布局;第七十一图B显示本发明(三输入端OR-NAND)单元之扩散区与复晶矽布线;第七十二图A显示本发明(三输入端OR-NAND)单元之第一金属层布线;第七十二图B显示本发明(三输入端OR-NAND)单元之第二金属层布线;第七十三图A与第七十三图B显示本发明一逻辑闸(OR-NAND),其中第七十三图A显示符号,第七十三图B显示电路;第七十四图A显示本发明中一(四输入端NAND)单元之布局;第七十四图B显示本发明(四输入端NAND)单元之扩散区与复晶矽布线;第七十五图A显示本发明(四输入端NAND)单元之第一金属层布线;第七十五图B显示本发明(四输入端NAND)单元之第二金属层布线;第七十六图A与第七十六图B显示本发明一逻辑闸(NAND),其中第七十六图A显示符号,第七十六图B显示电路;第七十七图系显示本发明中一(NAND)单元之电路;第七十八图A显示本发明中一(四输入端NOR)单元之布局;第七十八图B显示本发明(四输入端NOR)单元之扩散区与复晶矽布线;第七十九图A显示本发明(四输入端NOR)单元之第一金属层布线;第七十九图B显示本发明(四输入端NOR)单元之第二金属层布线;第八十图A与第八十图B显示本发明一逻辑闸(NOR),其中第八十图A显示符号,第八十图B显示电路;第八十一图A显示本发明中一(exclusive OR)单元之布局;第八十一图B显示本发明(exclusive OR)单元之扩散区与复晶矽布线;第八十二图A显示本发明(exclusive OR)单元之第一金属层布线;第八十二图B显示本发明(exclusive OR)单元之第二金属层布线;第八十三图A与第八十三图B显示本发明一逻辑闸(exclusive OR),其中第八十三图A显示符号,第八十三图B显示电路;第八十四图系显示本发明中一(exclusive OR)单元之电路;第八十五图A显示本发明中一(exclusive NOR)单元之布局;第八十五图B显示本发明(exclusive NOR)单元之扩散区与复晶矽布线;第八十六图A显示本发明(exclusive NOR)单元之第一金属层布线;第八十六图B显示本发明(exclusive NOR)单元之第二金属层布线;第八十七图A与第八十七图B显示本发明一逻辑闸(exclusive NOR),其中第八十七图A显示符号,第八十七图B显示电路;第八十八图系显示本发明中一(exclusive NOR)单元之电路;第八十九图A显示本发明中一(三输入端NOR)单元之布局;第八十九图B显示本发明(三输入端NOR)单元之扩散区与复晶矽布线;第九十图A显示本发明(三输入端NOR)单元之第一金属层布线;第九十图B显示本发明(三输入端NOR)单元之第二金属层布线;第九十一图A与第九十一图B显示本发明一逻辑闸(NOR),其中第九十一图A显示符号,第九十一图B显示电路;第九十二图系显示本发明中一(NOR)单元之电路;第九十三图A显示本发明中一(两输入端AND)单元之布局;第九十三图B显示本发明(两输入端AND)单元之扩散区与复晶矽布线;第九十四图A显示本发明(两输入端AND)单元之第一金属层布线;第九十四图B显示本发明(两输入端AND)单元之第二金属层布线;第九十五图A显示本发明中一(exclusive OR)单元之布局;第九十五图B显示本发明(exclusive OR)单元之扩散区与复晶矽布线;第九十六图A显示本发明(exclusive OR)单元之第一金属层布线;以及第九十六图B显示本发明(exclusive OR)单元之第二金属层布线。
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