发明名称 高对比电浆平面显示器结构及其制造方法
摘要 一种高对比电浆平面显示器结构,其主要是由玻璃基板、黑色罩幕、透明电极、汇流排电极、介电层、MgO层所构成。黑色罩幕形成在玻璃基板表面的电极形成区域及不发光区域。透明电极形成在电极形成区域的黑色罩幕表面。汇流排电极形成在透明电极的表面。介电层及MgO层则依序沈积在整个玻璃基板的上方。另外,黑色罩幕通常是由Cr/Cr2O3结构、Fe/Fe2O3结构或黑色低融点玻璃物质所构成。透明电极通常是由铟锡氧化物或氧化锡所构成。汇流排电极通常是由Cr/Cu/Cr结构、Cr/Al/Cr结构或Ag结构所构成。介电层则通常是由氧化铅或氧化矽等物质所构成。
申请公布号 TW469475 申请公布日期 2001.12.21
申请号 TW088114929 申请日期 1999.08.31
申请人 达碁科技股份有限公司 发明人 卢金钰;宋文发;黄春津;李大元
分类号 H01J9/00 主分类号 H01J9/00
代理机构 代理人 洪澄文 台北巿信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种电浆平面显示器结构的制造方法,其步骤包括:(a)提供一玻璃基板;(b)在该玻璃基板上形成一遮光罩幕,该遮光罩幕具有一遮光罩幕顶面;(c)在该玻璃基板上紧邻该遮光罩幕处形成一透明电极,该透明电极具有一侧向延伸区,该侧向延伸区系覆盖于该遮光罩幕顶面上;(d)在该透明电极侧向延伸区上,形成一滙流排电极,如此使该滙流排电极底面受到该遮光罩幕遮蔽而减少反光。2.如申请专利范围第1项所述电浆平面显示器结构的制造方法,其中在步骤(b)中,同时在该玻璃基板上形成一黑色罩幕,该黑色罩幕可用以隔离该玻璃基板上不同的影像像素。3.如申请专利范围第1项所述电浆平面显示器结构的制造方法,其中在步骤(d)之后,更包括步骤(e)形成一介电层以覆盖在该玻璃基板,该遮光罩幕,该透明电极,该滙流排电极之上。4.如申请专利范围第3项所述电浆平面显示器结构的制造方法,其中在步骤(e)之后,更包括步骤(f)在该介电层表面形成一保护层。5.一种电浆平面显示器结构的制造方法,其步骤包括:(e)提供一玻璃基板;(f)在该玻璃基板上形成一遮光罩幕,该遮光罩幕具有一遮光罩幕侧壁与一遮光罩幕顶面;(g)在该玻璃基板上形成一透明电极,该透明电极具有一透明电极侧壁,该透明电极侧壁系与该遮光罩幕侧壁相邻接,且该透明电极侧壁之高度大于该遮光罩幕侧壁之高度,如此使该透明电极侧壁具有一外露部份;(h)在该遮光罩幕顶面形成一滙流排电极,且该滙流排电极系与该透明电极侧壁外露部分相导通,如此使该滙流排电极底面受到该遮光罩幕遮蔽而减少反光。6.如申请专利范围第5项所述电浆平面显示器结构的制造方法,其中在步骤(b)中,同时在该玻璃基板上形成一黑色罩幕,该黑色罩幕可用以隔离该玻璃基板上不同的影像像素。7.如申请专利范围第5项所述电浆平面显示器结构的制造方法,其中在步骤(d)之后,更包括步骤(e)形成一介电层以覆盖在该玻璃基板,该遮光罩幕,该透明电极,该滙流排电极之上。8.如申请专利范围第7项所述电浆平面显示器结构的制造方法,其中在步骤(e)之后,更包括步骤(f)在该介电层表面形成一保护层。9.一种电浆平面显示器结构的制造方法,其步骤包括:(a)提供一玻璃基板;(b)在该玻璃基板上形成一遮光罩幕,该遮光罩幕具有一遮光罩幕侧壁与一遮光罩幕顶面;(c)在该玻璃基板上形成一透明电极,该透明电极具有一透明电极侧壁与一透明电极顶面,该透明电极侧壁系与该遮光罩幕侧壁相邻接;(d)在该遮光罩幕顶面与该透明电极顶面之一部份形成一滙流排电极,且该滙流排电极系与该透明电极顶面之一部分相导通,如此使该滙流排电极底面受到该遮光罩幕遮蔽而减少反光。10.如申请专利范围第9项所述电浆平面显示器结构的制造方法,其中在步骤(b)中,同时在该玻璃基板上形成一黑色罩幕,该黑色罩幕可用以隔离该玻璃基板上不同的影像像素。11.如申请专利范围第9项所述电浆平面显示器结构的制造方法,其中在步骤(d)之后,更包括步骤(e)形成一介电层以覆盖在该玻璃基板,该遮光罩幕、该透明电极、该滙流排电极之上。12.如申请专利范围第11项所述电浆平面显示器结构的制造方法,其中在步骤(e)之后,更包括步骤(f)在该介电层表面形成一保护层。13.一种电浆显示器结构,该电浆显示器结构包括一玻璃基板,一透明电极,与一滙流排电极,该透明电极形成在该玻璃基板上,且该滙流排电极与该透明电极导通,其特征在于该滙流排电极及该玻璃基板之间形成有一遮光罩幕,如此使该滙流排电极底面受到该遮光罩幕遮蔽而减少反光。14.如申请专利范围第13项所述的电浆平面显示器结构,其中,该遮光罩幕具有一遮光罩幕顶面,该透明电极具有一侧向延伸区,该侧向延伸区系覆盖于该遮光罩幕顶面上,该滙流排电极系位在该透明电极侧向延伸区上。15.如申请专利范围第13项所述的电浆平面显示器结构,其中,该遮光罩幕具有一遮光罩幕侧壁与一遮光罩幕顶面,该透明电极具有一透明电极侧壁,该透明电极侧壁系与该遮光罩幕侧壁相邻接,且该透明电极侧壁之高度大于该遮光罩幕侧壁之高度,该滙流排电极形成在该遮光罩幕顶面上,如此使该透明电极侧壁具有一外露部份,而该滙流排电极系与该透明电极侧壁外露部分相导通。16.如申请专利范围第13项所述的电浆平面显示器结构,其中,该遮光罩幕具有一遮光罩幕侧壁与一遮光罩幕顶面,该透明电极具有一透明电极侧壁与一透明电极顶面,该透明电极侧壁系与该遮光罩幕侧壁相邻接,而该滙流排电极形成在该遮光罩幕顶面与该透明电极顶面之一部份上,该滙流排电极系与该透明电极顶面之一部分相导通。17.如申请专利范围第13项所述的电浆平面显示器结构,其中,该等遮光罩幕是Cr/Cr2O3结构。18.如申请专利范围第13项所述的电浆平面显示器结构,其中,该等遮光罩幕是Fe/Fe2O3结构。19.如申请专利范围第13项所述的电浆平面显示器结构,其中,该等遮光罩幕是由黑色低融点玻璃物质所构成。20.如申请专利范围第13项所述电浆平面显示器结构,其中,该等滙流排电极是Ag结构。21.如申请专利范围第13项所述电浆平面显示器结构,其中更包括一覆盖在该玻璃基板、该遮光罩幕、该透明电极、该滙流排电极上之介电层。22.如申请专利范围第21项所述的电浆平面显示器结构,其中,该介电层是由氧化铅及氧化矽等物质所构成。23.如申请专利范围第21项所述的电浆平面显示器结构,其中更包括一保护层形成在该介电层表面。24.如申请专利范围第23项所述的电浆平面显示器结构,其中该保护层系为MgO。图式简单说明:第一图A是习知电浆平面显示器的三电极结构图;第一图B是第一图A电浆平面显示器的表面放电状态图;第二图是说明电浆平面显示器之对比的示意图;第三图A-第三图G是一种将黑色罩幕导入电浆平面显示器的前板以改善亮室对比的制造流程图;第四图A-第四图F是另一种将黑色罩幕导入电浆平面显示器的前板以改善亮室对比的制造流程图;第五图A-第五图H是再一种将黑色罩幕导入电浆平面显示器的前板以改善亮室对比的制造流程图;以及第六图A-第六图F是本发明电浆平面显示器结构的制造流程图。第六图D'-第六图F'是本发明电浆平面显示器结构的第二实施例制造流程图。第六图D"-第六图F"是本发明电浆平面显示器结构的第三实施例制造流程图。
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