发明名称 Feldeffektgesteuertes, vertikales Halbleiterbauelement
摘要 Die Erfindung betrifft ein feldeffektgesteuertes, vertikales Halbleiterbauelement, das in einem Halbleiterkörper angeordnet ist, mit DOLLAR A - mindestens einer Innenzone des ersten Leitungstyps, DOLLAR A - mindestens einer an die Innenzone und an eine erste Oberfläche des Halbleiterkörpers angrenzende Basiszone des zweiten Leitungstyps, DOLLAR A - mindestens einer in jeder Basiszone angeordneten Sourcezone des ersten Leitungstyps, DOLLAR A - mindestens eine weitere Basiszone des zweiten Leitungstyps, die von der Basiszone durch eine Zwischenzone des ersten Leitungstyps beabstandet ist, und DOLLAR A - mindestens eine Sourcekontaktzone, die die Sourcezonen, die Basiszonen und die weiteren Basiszonen niederohmig miteinander verbindet.
申请公布号 DE10026925(A1) 申请公布日期 2001.12.20
申请号 DE20001026925 申请日期 2000.05.30
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 WERNER, WOLFGANG
分类号 H01L29/08;H01L29/10;H01L29/45;H01L29/739;H01L29/78;(IPC1-7):H01L29/78 主分类号 H01L29/08
代理机构 代理人
主权项
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