发明名称 含有增粘层的多层结构
摘要 本发明涉及一种增粘层,当将其用在印刷电路板用多层结构中时,它能表现出高温稳定性和高剥离强度。更具体地讲,本发明涉及含有式(Y-R)#-[a]Si(X)#-[4-a](式中各符号的定义见说明书)第一硅烷和式(GR)#-[b]Si(K)#-[4-b](式中各符号的定义见说明书)第二硅烷的多层结构用增粘层。本发明还涉及包含预浸料坯层和增粘层的多层结构;在所述预浸料坯层中,预浸料坯由可通过碳碳双键固化机理固化的树脂制成;所述增粘层包含上述第一硅烷和第二硅烷。
申请公布号 CN1076272C 申请公布日期 2001.12.19
申请号 CN96111302.2 申请日期 1996.07.23
申请人 古尔德电子有限公司 发明人 C·A·普塔西;R·L·卢菲
分类号 B29C65/54;H05K1/05;//B29K55:00,B29L31:34 主分类号 B29C65/54
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 杨九昌;田舍人
主权项 1.一种包含预浸料坯层和增粘层的多层结构,其中所述预浸料坯层由双马来酰亚胺化合物和双酚A化合物反应制得的聚酰亚胺树脂制成;所述增粘层含有下式硅烷: (Y-R)aSi(X)4-a式中a是1或2,X是可水解基团,R是烃基,和Y是杂环官能基,但条件是:X和Y不是含环氧的基团。
地址 美国俄亥俄州