发明名称 | 平版印刷版用支持体 | ||
摘要 | 提供耐印刷性、耐污性和耐苛刻油墨污染性都优良的平版印刷版用支持体。该平版印刷版用支持体是在含有Fe0.2~0.5质量%、Si0.04~0.20质量%、Ti0.010~0.040质量%、Cu和Mg,Cu0.001质量%以上、不到0.02质量%、Mg0.002~0.020质量%、或者Cu0.02~0.040质量%、而且Mg大于0.020质量%、0.05质量%以下,余量是Al和不可避免的杂质构成的铝合金板上,施行包括电化学粗糙面化处理的粗糙面化处理和使用含有H<SUB>2</SUB>SO<SUB>4</SUB>的电解液的阳极氧化处理而形成的平版印刷版用支持体,其特征在于,相对阳极氧化膜表面的网眼的细孔面积率是0.05~0.5,阳极氧化膜表面上的细孔存在率是1×10<SUP>14</SUP>~1×10<SUP>16</SUP>个/m<SUP>2</SUP>,而且存在于阳极氧化膜表面的粒子径是0.5μm以上的金属间化合物粒子是3000个/mm<SUP>2</SUP>以下。 | ||
申请公布号 | CN1326860A | 申请公布日期 | 2001.12.19 |
申请号 | CN01115737.2 | 申请日期 | 2001.05.31 |
申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 泽田宏和;上杉彰男 |
分类号 | B41N3/03 | 主分类号 | B41N3/03 |
代理机构 | 北京市专利事务所 | 代理人 | 程凤儒 |
主权项 | 1.平版印刷版用支持体,它是在含有Fe0.2~0.5质量%、Si0.04~0.20质量%、Cu0.001质量%以上、不到0.02质量%、Ti0.010~0.040质量%和Mg0.002~0.020质量%,余量是Al和不可避免的杂质构成的铝合金板上,施行包括电化学粗糙面化处理的粗糙面化处理和使用含有H2SO4的电解液的阳极氧化处理而形成的平版印刷版用支持体,其特征在于,相对阳极氧化膜表面的网眼的细孔面积率是0.05~0.5,阳极氧化膜表面上的细孔存在率是1×1014~1×1016个/m2,而且存在于阳极氧化膜表面的粒子径是0.5μm以上的金属间化合物粒子是3000个/mm2以下。 | ||
地址 | 日本神奈川县 |