| 发明名称 |
A COMPOSITION AND METHOD FOR SELECTIVELY ETCHING A SILICON NITRIDE FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG85120(A1) |
申请公布日期 |
2001.12.19 |
| 申请号 |
SG19990003490 |
申请日期 |
1999.07.19 |
| 申请人 |
ASHLAND INC. |
发明人 |
THOMAS B. HACKETT;ZACK HATCHER III |
| 分类号 |
H01L21/306;C09K13/04;H01L21/311;(IPC1-7):H01L21/311 |
主分类号 |
H01L21/306 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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