发明名称 | 铝反射镜及其制备方法 | ||
摘要 | 在真空下的室中,在玻璃衬底上沉积SiO形成作为保护薄膜的第一层,在第一层上沉积Al形成作为铝反射薄膜的第二层,在第二层上沉积MgF<SUB>2</SUB>形成作为透明保护薄膜的第三层,在第三层上沉积CeO<SUB>2</SUB>形成作为透明保护薄膜的第四层。然后,在导入O<SUB>2</SUB>到室中的同时,在第四层上沉积SiO<SUB>2</SUB>形成作为透明保护薄膜的第五层。 | ||
申请公布号 | CN1327162A | 申请公布日期 | 2001.12.19 |
申请号 | CN01119452.9 | 申请日期 | 2001.06.05 |
申请人 | 富士写真光机株式会社 | 发明人 | 黑部邦夫;相原进 |
分类号 | G02B5/08 | 主分类号 | G02B5/08 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 段承恩 |
主权项 | 1.一种制备铝反射镜的方法,其中,从玻璃衬底一侧顺序地在该玻璃衬底上叠层第一至第五层,所述方法包括:对容纳所述玻璃衬底和形成所述第一至第五层的相应各种材料的室抽真空步骤;通过在所述玻璃衬底上沉积SiO形成作为保护层的所述第一层的步骤;通过在所述第一层上沉积Al形成作为铝反射层的第二层的步骤;通过在所述第二层上沉积MgF2形成作为透明保护层的所述第三层的步骤;通过在所述第三层上沉积CeO2形成作为透明保护层的所述第四层的步骤;在导入O2到所述室中时通过在所述第四层上沉积SiO2形成作为透明保护层的所述第五层的步骤; | ||
地址 | 日本姴玉县 |