| 发明名称 |
High resolution patterning method |
| 摘要 |
<p>This invention relates to a method of forming high resolution patterns of material on a substrate by way of catalytic reactions.</p> |
| 申请公布号 |
GB0125883(D0) |
申请公布日期 |
2001.12.19 |
| 申请号 |
GB20010025883 |
申请日期 |
2001.10.29 |
| 申请人 |
QINETIQ LIMITED |
发明人 |
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| 分类号 |
C23C18/18;C23C18/16;C23C18/28;C23C18/31;G01Q30/02;H05K3/18 |
主分类号 |
C23C18/18 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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