发明名称 POLISHING PAD FOR SEMICONDUCTOR AND OPTICAL PARTS AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
摘要
申请公布号 KR20010111548(A) 申请公布日期 2001.12.19
申请号 KR20000032193 申请日期 2000.06.12
申请人 G&P TECHNOLOGY CO., LTD. 发明人 JUNG, HAE DO;KIM, HO YUN;LEE, HO SIK
分类号 B24B37/04;B24D3/34;B24D11/00;B24D13/14;(IPC1-7):H01L21/302 主分类号 B24B37/04
代理机构 代理人
主权项
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