发明名称 |
POLISHING PAD FOR SEMICONDUCTOR AND OPTICAL PARTS AND MANUFACTURING METHOD THEREOF |
摘要 |
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申请公布号 |
KR20010111548(A) |
申请公布日期 |
2001.12.19 |
申请号 |
KR20000032193 |
申请日期 |
2000.06.12 |
申请人 |
G&P TECHNOLOGY CO., LTD. |
发明人 |
JUNG, HAE DO;KIM, HO YUN;LEE, HO SIK |
分类号 |
B24B37/04;B24D3/34;B24D11/00;B24D13/14;(IPC1-7):H01L21/302 |
主分类号 |
B24B37/04 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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