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LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE UN RECUBRIMIENTO ANTIRREFLEJANTE ALTAMENTE POROSO, AL RECUBRIMIENTO FABRICADO MEDIANTE ESTE PROCEDIMIENTO Y A LAS FORMULAS PARA LA REALIZACION DEL PROCEDIMIENTO. EL PROCEDIMIENTO SEGUN LA INVENCION SE CARACTERIZA PORQUE UNA SOLUCION COLOIDAL DISPERSA SE COLOCA SOBRE UN SUSTRATO Y SE SECA, EN DONDE DICHA SOLUCION SE HA CONSEGUIDO MEDIANTE LA CONDENSACION HIDROLITICA DE UNO O MAS COMPUESTOS DE SILICEO DE LA FORMULA GENERAL I, EN LA QUE LOS RESTOS SON IGUALES O DIFERENTES, R ES UN RESTO ORGANICO QUE TIENE DE 1 A 10 ATOMOS DE CARBONO, QUE PUEDE INTERRUMPIRSE CON ATOMOS DE OXIGENO Y/O DE AZUFRE Y/O CON GRUPOS AMINOS, X ES HIDROGENO, HALOGENO, HIDROXI, ALCOXI, ACILOXI, ALQUILCARBONILO, ALCOXICARBONILO O NR'' SUB,2} R ES HIDROGENO, ALQUILO O ARILO Y A ES IGUAL A 0, 1 O 2, Y/O SE HA CONSEGUIDO A PARTIR DE ESTOS CONDENSADOS PREVIOS DERIVADOS, TAMBIEN EN PRESENCIA DE UN DISOLVENTE Y/O DE UN CATALIZADOR MEDIANTE LA ACCION DEL AGUA O DE LA HUMEDAD Y QUE CONTIENE UNO O MAS POLIMEROS ORGANICOS EN FORMA DE SOLUCION COLOIDAL CON GRUPOS OH Y/O NH UN PESO MOLECULAR MEDIO ENTRE 200 Y 500.000, EN DONDE LA RELACION MOLECULAR ENTRE EL POLIMERO Y EL SILANIO OSCILA ENTRE 0,1 MMOL/MOL Y 100 MMOL/MOL, Y SE CARACTERIZA TAMBIEN PORQUE AL CALENTARSE SE SEPARAN LOS COMPONENTES ORGANICOS. EL RECUBRIMIENTO ANTIRREFLEJANTE SEGUN LA INVENCION SE APLICA A SU VEZ PARA AUMENTAR LA TRANSMISION Y PARA IMPEDIR O MINIMIZAR LAS REFLEXIONES NO DESEADAS DE LAS RADIACIONES VISIBLES O DE OTRAS RADIACIONES ELECTROMAGNETICAS.
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