| 摘要 |
이온 및 라디칼을 포함하는 플라즈마를 발생시키기에 적합한 제 1 반응 챔버와, 제 1 반응 챔버에 연결되어 제 2 챔버 내의 장소에 기판을 저장하기에 적합한 제 2 챔버를 포함하는, 기판을 플라즈마 라디칼에 노출시키기 위한 장치이다. 제 2 챔버는, 제 1 챔버로부터 제 2 챔버로 이동되는 플라즈마가 주어진 플라즈마 방전 속도에서의 이온 수명과 동등한 거리만큼 기판 위치로부터 떨어지게 되도록 제 1 챔버에 연결된다. 이러한 방식으로, 라디칼은 기판에 도달하여 기판 또는 기판 위의 물질과 반응하면서, 최초에 플라즈마 내에 존재하였던 이온을 중성 전하 상태로 변환시킨다. |
