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发明名称 METHOD FOR SEPARATING LOWER ELECTRODE LAYER THROUGH TWO-STEP CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PROCESS
摘要
申请公布号 KR20010110528(A) 申请公布日期 2001.12.13
申请号 KR20000031032 申请日期 2000.06.07
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 KIM, JEONG YEOP;PARK, YEONG RAE;YOON, BO EON
分类号 (IPC1-7):H01L21/302 主分类号 (IPC1-7):H01L21/302
代理机构 代理人
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