发明名称 ARRANGEMENT FOR SUPERIMPOSING THE RADIATION FROM AT LEAST TWO RADIATION SOURCES OF DIFFERENT WAVELENGTHS
摘要 Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Überlagerung der Strahlung von mindestens zwei Strahlenquellen unterschiedlicher Wellenlänge, wobei für die Strahlungszusammenführung mindestens ein mit einer Filterbeschichtung versehenes Substrat eingesetzt ist, wobei diese Beschichtung für die Wellenlänge der einen Strahlenquelle transmittierend ist und für die Wellenlänge der anderen Strahlenquelle reflektierend ist, die dadurch gekennzeichnet ist, dass das Substrat eine planparallele Platte (14) mit einer Dicke w und einem Brechungsindex n ist, wobei die eine Fläche (16) eine Strahleintrittsfläche bildet und die der Strahleintrittsfläche gegenüberliegende Fläche (17) eine Strahlführungsfläche bildet, dass die mindestens zwei Strahlenquellen (11, 12; 20) mit ihren Strahlachsen (13) parallel mit Strahlabstand s zueinander angeordnet sind, dass die planparallele Platte (14) unter einem Einfallswinkel alpha zwischen deren Flächennormalen (15) und den Strahlachsen (13) der Strahlungsquellen (11, 12; 20) angeordnet ist, wobei die Grössen w, alpha , s, n folgender Bedingung genügen (I), wobei die Strahleintrittsfläche (16) der Platte (14) im Bereich des Strahlquerschnitts der jeweiligen, auftreffenden Strahlung transmittierend ist und für die jeweils zu überlagernde Strahlung reflektierend ist, und wobei die Strahlführungsfläche (17) im Bereich der gesamten, überlagerten Strahlung antireflektierend ist und ansonsten reflektierend ist.
申请公布号 WO0137024(A3) 申请公布日期 2001.12.13
申请号 WO2000EP11029 申请日期 2000.11.08
申请人 FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.;LASER ZENTRUM HANNOVER E.V.;LUFT, AXEL;KNITSCH, ALEXANDER;RISTAU, DETLEV;GROSS, TOBIAS 发明人 LUFT, AXEL;KNITSCH, ALEXANDER;RISTAU, DETLEV;GROSS, TOBIAS
分类号 G02B27/10;(IPC1-7):G02B27/14 主分类号 G02B27/10
代理机构 代理人
主权项
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