摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Überlagerung der Strahlung von mindestens zwei Strahlenquellen unterschiedlicher Wellenlänge, wobei für die Strahlungszusammenführung mindestens ein mit einer Filterbeschichtung versehenes Substrat eingesetzt ist, wobei diese Beschichtung für die Wellenlänge der einen Strahlenquelle transmittierend ist und für die Wellenlänge der anderen Strahlenquelle reflektierend ist, die dadurch gekennzeichnet ist, dass das Substrat eine planparallele Platte (14) mit einer Dicke w und einem Brechungsindex n ist, wobei die eine Fläche (16) eine Strahleintrittsfläche bildet und die der Strahleintrittsfläche gegenüberliegende Fläche (17) eine Strahlführungsfläche bildet, dass die mindestens zwei Strahlenquellen (11, 12; 20) mit ihren Strahlachsen (13) parallel mit Strahlabstand s zueinander angeordnet sind, dass die planparallele Platte (14) unter einem Einfallswinkel alpha zwischen deren Flächennormalen (15) und den Strahlachsen (13) der Strahlungsquellen (11, 12; 20) angeordnet ist, wobei die Grössen w, alpha , s, n folgender Bedingung genügen (I), wobei die Strahleintrittsfläche (16) der Platte (14) im Bereich des Strahlquerschnitts der jeweiligen, auftreffenden Strahlung transmittierend ist und für die jeweils zu überlagernde Strahlung reflektierend ist, und wobei die Strahlführungsfläche (17) im Bereich der gesamten, überlagerten Strahlung antireflektierend ist und ansonsten reflektierend ist.
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申请人 |
FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.;LASER ZENTRUM HANNOVER E.V.;LUFT, AXEL;KNITSCH, ALEXANDER;RISTAU, DETLEV;GROSS, TOBIAS |
发明人 |
LUFT, AXEL;KNITSCH, ALEXANDER;RISTAU, DETLEV;GROSS, TOBIAS |