| 主权项 |
1.一种形成抗反射膜之方法,系黏着形成于玻璃表面上,且其包含制备包含下述化合物之反应混合物,下式(1)之矽化合物(A):Si(OR)4 (1)其中R为C1-5烷基;下式(2)之矽化合物(B):R1Si(O R2)3 (2)其中R1为C1-18有机基,及R2为C1-5烷基;下式(3)之醇类(C):R3CH2OH (3)其中R3为氢原子,或未取代的或取代的C1-12烷基;及乙二酸(D);该混合物比例包含:对每莫耳的矽化合物(A),矽化合物(B)为0.05至4.5莫耳,对每莫耳之矽化合物(A)及(B)中所含的总烷氧基,醇类(C)为0.5至100莫耳,及对每莫耳之矽化合物(A)及(B)中所含的总烷氧基,乙二酸(D)为0.2至2莫耳;在50至180℃温度下加热该反应混合物,直到在反应混合物中残余的矽化合物(A)及(B)的总含量低于5莫耳%为止,而以反应混合物中的矽原子计,维持SiO2浓度为0.5至10重量%,及保持无水之状态,以形成聚矽氧烷溶液;在玻璃表面涂覆聚矽氧烷溶液,以形成涂覆膜;及在480至520℃温度热固化该涂覆膜。2.如申请专利范围第1项之形成抗反射膜之方法,其中,矽化合物(B)之式(2)中,该有机基团为含氟原子R1基团。3.如申请专利范围第1项之形成抗反射膜之方法,其中,式(2)为下式(4)之矽化合物(B):CF3(CF2)nCH2CH2Si(OR4)3 (4)其中n为0至12整数,及R4为C1-5烷基。4.一种抗反射膜,系黏着形成于玻璃表面上,其具有折射率为1.33至1.38,及水接触角度为至多40,且其由包含下述化合物之反应混合物所制备,下式(1)之矽化合物(A):Si(OR)4 (1)其中R为C1-5烷基;下式(2)之矽化合物(B):R1Si(O R2)3 (2)其中R1为C1-18有机基,及R2为C1-5烷基;下式(3)之醇类(C):R3CH2OH (3)其中R3为氢原子,或未取代的或取代的C1-12烷基;及乙二酸(D);该混合物比例包含:对每莫耳的矽化合物(A),矽化合物(B)为0.05至4.5莫耳,对每莫耳之矽化合物(A)及(B)中所含的总烷氧基,醇类(C)为0.5至100莫耳,及对每莫耳之矽化合物(A)及(B)中所含的总烷氧基,乙二酸(D)为0.2至2莫耳;在50至180℃温度下加热该反应混合物,直到在反应混合物中残余的矽化合物(A)及(B)的总含量低于5莫耳%为止,而以反应混合物中的矽原子计,维持SiO2浓度为0.5至10重量%,及保持无水之状态,以形成聚矽氧烷溶液;在玻璃表面涂覆聚矽氧烷溶液,以形成涂覆膜;及在480至520℃温度热固化该涂覆膜。5.如申请专利范围第4项之抗反射膜,其中,矽化合物(B)之式(2)中,该有机基团为含氟原子之R1基团。6.如申请专利范围第4项之抗反射膜,其中,式(a)为下式(4)之矽化合物(B):CF3(CF2)nCH2CH2Si(OR4)3 (4)其中n为0至12整数,及R4为C1-5烷基。7.一种抗反射玻璃,其包含玻璃及申请专利范围第4项之抗反射膜,又,该膜系形成于玻璃之一面或二面上。 |
