发明名称 包含由单硼烷衍生之硼酸盐光起始剂之光可聚合组成物及其应用
摘要 本发明关于一种光可聚合组成物,包括一当作光起始剂之一式I或I′硼酸盐:CC □(I) (I′)其中; R1,R2和R3为,例如互不相关的为苯基或芳香系碳氢化合物,含有或不含有任何的杂原子,这些取代基是未经取代的或经取代的,或反应基Rl和R2形成一架桥基以产生式II,IIa或IIb的结构:CC CC CC(II) (IIa) (IIa)其限制为Rl,R2和R3反应基中不超过两个是相同的,且R1,R2和R3反应基中的至少两个是芳香系碳氢化物反应基,或是苯基反应基(其在两个邻位上是经取代的),或是至少一个反应基Rl,R2或R3是庞大的立体芳基反应基,剩下的反应基Rl,R2和R3是芳香系碳氢化合物反应基或是苯基反应基(在至少一个邻位是经取代的);R4为,例如苯基或Cl-C2o烷基,及G是能形成正离子的反应基。
申请公布号 TW467933 申请公布日期 2001.12.11
申请号 TW085113755 申请日期 1996.11.11
申请人 汽巴特用化学品控股公司 发明人 亚伦.法兰西斯.康宁汉;马汀.昆滋;仓.久敏
分类号 C08K5/55 主分类号 C08K5/55
代理机构 代理人 林镒珠 台北市长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种光可聚合组成物,包括:a)至少一含可聚合乙烯双键未饱和的化合物,及b)至少一式I或I'化合物当作单分子光起始剂:其中:R1,R2,和R3互不相关的为苯基,联苯基,基,基,菲基,芘基,基,异基,联三苯基,或三苯基苯基,这些取代基是未经取代的,或由C1-C20烷基,OR6,R6S(O)p,R7R8N及/或卤素取代1-5次的,或反应基R2和R3形成一架桥基以产生式II,IIa或IIb的结构,;但前提是R1,R2和R3中不超过两个是相同的,及且至少两个反应基R1,R2和R3是联苯基,基,葱基,菲基,基,异基,联三苯基,三苯基苯基,芘基或苯基(其在两个邻位是经取代的);或是至少一个反应基R1,R2或R3是联苯基,基,基,菲基,基,异基,联三苯基,三苯基苯基,或芘基,R1,R2和R3剩下的反应基是联苯基,基,基,菲基,基,异基,联三苯基,三苯基苯基,芘基或苯基(其在至少一个邻位上是经取代的);R1 a 是苯撑,联苯撑,或撑;R4是C1-C20烷基;Y是(CH2)n,n是0,1或2;p是0,1或2;E是R21 R22 R23 P, R7R7aR8N或R6R6aS;R6和R6a是未经取代的或卤素-取代的C1-C12烷基,苯基-C1-C6烷基或苯基,其中反应基苯基-C1-C6烷基或苯基是未经取代的或经由C1-C6烷基,C1-C12烷氧基及/或卤素取代1-5次的;R7,R7a,和R8互不相关的为C1-C12烷基,或苯基,其中反应基苯基是未经取代的或经由C1-C6烷基,C1-C12烷氧基及/或卤素取代1-5次的,或R7和R8一起和其所键结的N原子形成-5-或6-元环,此环可另外含有O或S原子;R21,R22和R23互不相关的为C1-C12烷基,C2-C12烯基或C3-C12环烷基。或R21,R22和R23是苯基,其是未经取代的或由C1-C6烷基,C1-C12烷氧基或卤素单-至五-取代的;及G是一能够形成正离子的反应基。2.如申请专利范围第1项之光可聚合组成物,其中在式I及I'化合物中,R1和R2是相同的。3.如申请专利范围第1项之光可聚合组成物,其中在式I及I'化合物中,R6是C1-C4烷基,三氟化甲基或苯基,其是未经取代的或经由C1-C6烷基,C1-C12烷氧基及/或卤素取代1-5次的。4.如申请专利范围第1项之光可聚合组成物,其中在式I及I'化合物中,R7和R8是C1-C4烷基,苯基或苯基-C1-C6烷基,或一起和其所键结的N原子为咯啶,啶基或吗基。5.如申请专利范围第1项之光可聚合组成物,其中在式I化合物中,R1和R2是2,6-二(C1-C6烷基)苯基,2,6-二(C1-C6烷氧基)苯基,2,6-双(三氟化甲基)苯基,2,6-二(卤化)苯基,2,4,6-三(C1-C6烷基)苯基,2,4,6-三(C1-C6烷氧基)苯基,2,4,6-三(三氟化甲基)苯基或2,4,6-三(卤化)苯基。6.如申请专利范围第1项之光可聚合组成物,其中在式I化合物中,R1和R2是均三甲苯基。7.如申请专利范围第1项之光可聚合组成物,其中在式I化合物中,R1是1-基,2-(C1-C6烷基)--1-基,1-基或9-基。8.如申请专利范围第1项之光可聚合组成物,其中在式I化合物中,G是一第一氧化态之周期表第I族金属,或G是MgZ1+或CaZ1+,其中Z1是卤素,或C1-C4烷氧基,或G是铵盐,盐或鏻盐。9.如申请专利范围第1项之光可聚合组成物,其中在式I化合物中,R1和R2是相同的,且为单-至五-C1-C4烷基-及/或-卤素-取代的苯基,基或基,R3是未经取代的或卤素-或C1-C4烷基-取代的苯基,联苯基,1-基,2-基,9-基,9-菲基或1-芘基,R4是苯基或C1-C4烷基,或R2和R3形成一产生式II结构之架桥基,其中Y是一键,G是四甲基铵,藏花红O阳离子(safranin O cation)(苯基)3P=N+=P(苯基)3,(苯基)3-P+-CH2-C-OCH3,(苯基)3-P+-CH2-CH=CH2,(苯基)3-P+-(CH2)2(苯基)3-S+,(苯基)2-S-CH2(苯基)2-S-CH2或一式I'化合物,其中R1a是撑,及E是三甲基铵或二甲基基铵。10.如申请专利范围第1项之光可聚合组成物,除了成份a)和b)外,包括至少一共起始剂(c)。11.如申请专利范围第10项之光可聚合组成物,其中共起始剂(c)是一中性,阳离子或阴离子染料。12.如申请专利范围第10项之光可聚合组成物,其中共起始剂(c)是一UV吸收剂。13.如申请专利范围第1项之光可聚合组成物,除了成份(a)和(b)外,包括至少一式XI化合物;其中Ra,Rb,Rc和Rd互不相关的为C1-C12烷基,三甲基矽基甲基,苯基,另一芳香系碳氢化合物,C1-C6烷基苯基,烯丙基,苯基-C1-C6烷基,C2-C8烯基,C2-C8炔基,C3-C12环烷基或饱和或未饱和杂杂环反应基,其中苯基,另一芳香系碳氢化合物,苯基-C1-C6烷基及饱和或未饱和杂环反应基是未经取代的,或经由未经取代的,或OR6-或NR8R9-取代的C1-C20烷基,C2-C20烷基(其是由反应基O,S(O)p或NP5中断一次或多次的),OR6,R6S(O)p,R6S(O)2O,R7R8N,R6OC(O),R7R8NC(O),R9C(O),R9R10R11Si,R9R10R11Sn,卤素或R9R10P(O)q,或CN取代1-5次的;p是0,1或2;q是0或1;R5是氢,C1-C12烷基,苯基-C1-C6烷基或苯基,其中反应基苯基-C1-C6烷基或苯基是未经取代的或经由C1-C6烷基,C1-C12烷氧基及/或卤素取代1-5次的;R6是未经取代的或卤素-取代的C1-C12烷基,苯基-C1-C6烷基或苯基,其中反应基苯基-C1-C6烷基或苯基是未经取代的或经由C1-C6烷基,C1-C12烷氧基及/或卤素取代1-5次的;R7和R8互不相关的分别为未经取代的或C1-C12烷氧基-,卤素-,OH-,COOR6-或CN-取代的C1-C12烷基,C3-C12环烷基,苯基-C1-C6烷基或苯基,其中反应基苯基-C1-C6烷基或苯基是未经取代的或经由C1-C6烷基,C1-C12烷氧基及/或卤素取代1-5次的;或R7和R8一起和其所键结的N原子形成-5-或6-元环,此环可另外包含O或S原子;R9,R10和R11互不相关的分别为C1-C12烷基,C3-C12环烷基,苯基-C1-C6烷基或苯基,其中反应基苯基-C1-C6烷基或苯基是未经取代的或经由C1-C6烷基,C1-C12烷氧基及/或卤素取代1-5次的;及Z是一能形成正离子的反应基。14.如申请专利范围第1项之光可聚合组成物,除了成份(a)和(b)外,也包括至少一式I或I'的硼酸盐及至少一染料,其在照光时或照光后会改变或漏失色泽,该当作阳离子之染料也可是式I化合物组成的一部份。15.如申请专利范围第1项之光可聚合组成物,其除了光起始剂(b)外,也包括至少其它光起始剂(d)及/或其它添加剂。16.如申请专利范围第15项之光可聚合组成物,其中一易于还原的化合物被用作其它添加剂。17.如申请专利范围第15项之光可聚合组成物,其中光起始剂(d)之钛烯(titanocene),铁烯(ferrocene),苯并苯酮,苯甲醯苯甲醇烷基醚,联苯甲醯缩酮,4-芳醯基-1,3-二恶烷,二烷氧基乙醯苯酮,-羟基-或-胺基乙醯苯酮,及当作其它光起始剂之-羟基环烷基苯基酮,山吨酮,硫代山吨酮,或单-或联醯基氧化膦,或其混合物。18.如申请专利范围第1项之光可聚合组成物,除了成份(a)和(b)外,包括至少一中性,阴离子或阳离子染料或一硫代山吨酮及一盐化合物。19.如申请专利范围第18项之光可聚合组成物,另外包括一游离反应基光起始剂。20.如申请专利范围第1项之光可聚合组成物,包含从0.05至15%重量百分比之成份(b)及/或成份(b)+(d)(依据组成物重量计算)。21.一种式Ia或Ia'化合物,其中:R1'和R2'互不相关的为苯基,其至少一个对于硼原子是邻位之位置是经由C1-C20烷基,OR6,R6S(O)p,R7R8N及/或卤素取代的,或R1'和R2'形成一式II,IIa或IIb的架桥基;R1a'是苯撑,联苯撑或撑;R3'是联苯基,基,基,菲基,基,异基,联三苯基,三苯基苯基或芘基;R4是C1-C20烷基;Y是(CH2)n;n是0,1或2;p是0,1或2;E是R21R22R23P,R7R7aR8N或R6R6aS;R6和R6a为C1-C12烷基,苯基-C1-C6烷基或苯基,其中反应基苯基-C1-C6烷基或苯基是未经取代的或经由C1-C6烷基,C1-C12烷氧基及/或卤素取代1-5次的;R7,R7a,和R8为C1-C12烷基,或苯基,其中反应基苯基是未经取代的或经由C1-C6烷基,C1-C12烷氧基及/或卤素取代1-5次的,或R7和R8一起和其所键结的N原子形成-5-或6-元环,此环可另外含有O或S原子;R21,R22和R23互不相关的为C1-C12烷基,C2-C12烯基或C3-C12环烷基,或R21,R22和R23是苯基,其是未经取代的,或由C1-C6烷基,C1-C12烷氧基或卤素单-至五-取代的;及G是一能够形成正离子的反应基。22.如申请专利范围第21项之化合物,其中G是周期表于第一氧化状态之第I族金属,或G是MgZ1+,或CaZ1+,其中Z1是卤素或C1-C4烷氧基,或G是铵盐,盐或鏻盐。23.如申请专利范围第21项之化合物,其中R3'是1-或2-基,联基,基,菲基,芘基,基,异基,联苯基,o-,m-或p-联三苯基或三苯基苯基。24.一种光聚合非挥发性、且含有一乙烯化未饱和双键的单体、寡聚合或聚合化合物的方法,包括加入至少如申请专利范围第1项之式I或I'化合物,或如申请专利范围第21项中之化合物当作单分子光起始剂至该化合物中,及以具有波长从红外线区域经UV区域至波长200nm区域的光源照射结果混合物。25.如申请专利范围第24项之方法,其用于生产染色及未染色涂料物质,粉末涂覆物,印刷油墨,印刷板,黏附剂,牙医组成物,波导、光学开关,色泽保护系统,复合组成物,玻璃纤维导线涂覆,网板印刷缕花模板,阻抗物质之应用,用于包覆电路及电子元件,用于制造复合组成物,用于制备瓷性记录物质,以立体石印术制备三-维物品,相片再冲印,及当作影像记录物质。26.一种经涂覆的基质,其至少一面是以如申请专利范围第13项之组成物涂覆。27.一种照像制造凸板影像的方法,包括将如申请专利范围第26项之经涂覆基质进行影像曝光,然后以一溶剂移去未曝光的部份,或以一可移动雷射光束(没有光罩)曝光如申请专利范围第26项之经涂覆基质,然后以一溶剂移去未曝光的部份。28.一种热聚合含乙烯未饱和双键化合物的方法,包括加入至少一式I或I'或Ia或Ia'化合物当作聚合起始剂。
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