| 主权项 |
1.一种成膜装置之清洁方法,系藉清洁气体将成膜装置中可藉真空排气系统形成真空状态之处理容器内所附着之多余膜层去除者,包含有:一压力维持步骤,系一面将预定量之清洁气体导入前述处理容器中,并一面控制设于前述真空排气系统之自动压力调节阀开度,以使前述处理容器维持于一预定之压力者;及一腐蚀终点辨识步骤,系对前述自动压力调节阀之开度加以监控,并检测该调节开度之变动是否已较安定时之开度超出一预先设定之预定量,而依此辨识腐蚀之终点者。2.如申请范围第1项之成膜装置之清洁方法,其中该腐蚀终点系在检测出该调节阀开度已变动至超出一预先设定的预定値之时点者。3.如申请范围第1项之成膜装置之清洁方法,其中该腐蚀终点系在检测出该调节阀开度已变动至超出一预先设定的预定値后经一预定时间之时点者。4.如申请范围第3项之成膜装置之清洁方法,其中该预定时间系自前述腐蚀开始时至检测出该调节阀开度已变动至超出一预先设定的预定値之时点为止所经时间之10~30%者。5.如申请范围第1项之成膜装置之清洁方法,其中前述调节阀开度之监控系藉监控用以驱动前述自动压力调节阀之控制电压而进行者。6.如申请范围第1项之成膜装置之清洁方法,其中前述清洁气体为ClF系气体,而前述腐蚀为不用电浆之热清洁。7.一种成膜装置之清洁装置,包含有:处理容器,系可将一用以载置被处理体之载置台收容于其内部者;清洁气体供给机构,系用以供给清洁气体至该处理容器内部者;真空排气系统,系用以将前述处理容器内之空气排出以形成真空者;自动压力调节阀,系设于该处理容器与该真空排气系统间,而可改变其开度,以将处理容器内之压力维持于一定値者;阀开度监控机构,系用以监控前述自动压力调节阀之开度者;变化量检测机构,系可根据该阀开度监控机构之输出而检测前述阀开度之变化量者;及清洁终点辨识机构,系可根据该变化量检测机构之输出而辨识清洁之终点者。图式简单说明:第一图系显示附设于成膜装置之本发明清洁装置的构造图。第二图系显示本发明清洁方法之步骤的流程图。第三图系显示于清洁处理时,制程压力与控制电压(阀开度)间之关系的图表。 |
