发明名称 | 散热装置 | ||
摘要 | 一种散热装置,具有一基座,该基座之顶面朝上凸设有复数排散热鳍片,该复数排散热鳍片彼此间系以适当间距平行排列。该基座底面之区域形成有一凹槽,用以贴靠并大致上覆盖住该直接外露并凸出于基板顶面之矽晶。再者,该基座之一侧具有较薄之厚度以形成一阶部,且在阶部之内侧,该基座并向下延伸出一凸条。 | ||
申请公布号 | TW468820 | 申请公布日期 | 2001.12.11 |
申请号 | TW089204150 | 申请日期 | 2000.03.15 |
申请人 | 鸿准精密工业股份有限公司 | 发明人 | 李朝阳;林雨利;曾兆坤 |
分类号 | G06F1/20;H05K7/20 | 主分类号 | G06F1/20 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | 1.一种散热装置,具有一基座,该基座之顶面朝上凸 设有复数排散热鳍片,该复数排散热鳍片彼此间系 以适当间距平行排列,该基座底面之中央区域形成 有一凹槽。2.如申请专利范围第1项所述之散热装 置,其中该基座上位于两外侧第三排散热鳍片之顶 部形成有长槽。3.如申请专利范围第1或2项所述之 散热装置,其中该基座之一侧具有较薄之厚度以形 成一阶部。4.如申请专利范围第3项所述之散热装 置,其中该基座在阶部之内侧向下延伸出一凸条。 5.如申请专利范围第1或2项所述之散热装置,其中 该基座之底面于该凹槽之两外侧适当距离处分别 向下延伸出一凸肋。图式简单说明: 第一图系习知散热装置之立体视图。 第二图系习知散热装置与覆晶式晶片之组装过程 示意图。 第三图系本创作散热装置与相关组件之立体分解 视图。 第四图系本创作散热装置与相关组件之立体组合 视图。 第五图系本创作散热装置与覆晶式晶片之组装过 程示意图。 第六图系本创作散热装置另一实施例之立体视图 。 | ||
地址 | 台北县土城巿中山路六十六之一号 |