| 主权项 |
1.一种清洗微电子晶圆基体表面以移除金属污染 而同时保持晶圆基体表面平滑性之方法,该方法包 括使晶圆基体表面接触到一种清洗组合物,历经足 以清理该晶圆基体表面之时间与温度,该清洗组合 物包含一种水溶液,其具有硷性不含金属离子硷, 选自氢氧化铵或四烷基氢氧化铵,及其混合物所构 成的群组,其中烷基是经取代烷基,或被羟基或烷 氧基取代之烷基, 以及多羟基化合物选自具有Hansen氢键溶解度参数 大于7.5cal1/2cm-3/2的一种高亲水性烷二醇与近位烷 基多元醇所构成的群组, 其中存在于清洗组合物中之硷性不含金属离子硷, 其量占该清洗组合物重量0.05%至25%,该多羟基化合 物之量占该清洗组合物重量1%至50%,且存在于水溶 液中之水占清洗组合物重量40%至98.05%。2.如申请 专利范围第1项之方法,其中硷性、不含金属离子 硷系以0.05%到10%重量比之量存在,而该多羟基化合 物系以5%到40%重量比之量存在。3.根据申请专利范 围第2项之方法,其中该清洗组合物另外包含金属 螯合物,其量占该清洗组合物重量0.01%到 5%。4.根据申请专利范围第1项之方法,其中该硷性 、不含金属离子硷是选自四甲基氢氧化铵、四乙 基氢氧化铵、三甲基-2-羟乙基氢氧化铵,氢氧化铵 ,以及其混合物所构成的群组。5.根据申请专利范 围第1项之方法,其中该硷性、不含金属离子硷是 一种烷醇胺。6.根据申请专利范围第1项之方法,其 中该硷性、不含金属离子硷是一种烷二铵。7.根 据申请专利范围第1项之方法,其中该多羟基化合 物是一种烷二醇,选自乙二醇,二乙二醇,三乙二醇, 四乙二醇,丙二醇,二丙二醇,三丙二醇,四丙二醇,2- 甲基-2,4-戊二醇,以及其混合物所构成的群组。8. 根据申请专利范围第1项之方法,其中该多羟基化 合物是一种近位烷多元醇,选自甘露醇,丁四醇,清 凉茶醇,木糖醇,阿东糖醇,甘油,以及其混合物所构 成的群组。9.根据申请专利范围第3项之方法,其中 该清洗组合物含有一种水溶液,其包含0.07重量%之 四甲基氢氧化铵,0.50重量%之氢氧化铵溶液,36重量% 之二乙二醇,以及0.09重量%之乙二胺四醋酸,此清洗 组合物之其余部份以水补足。10.根据申请专利范 围第3项之方法,其中该清洗组合物含有一种水溶 液,其包含0.07重量%之四甲氢氧化铵,2.5重量%之氢 氧化铵,35重量%由乙二醇与二乙二醇所构成群组中 选出之一种二醇,0.08重量%之冰醋酸,以及0.09重量% 之乙二胺四醋酸,此清洗组合物之其余部份以水补 足。11.根据申请专利范围第1项之方法,其中该清 洗组合物含有一种水溶液,其包含0.5重量%之四甲 基氢氧化铵,4重量%之1,3-戊二胺,50重量%之二乙二 醇,1重量%之醋酸,以及0.09重量%之乙二胺四醋酸,此 清洗组合物之其余部份以水补足。12.根据申请专 利范围第1项之方法,其中该清洗组合物含有一种 水溶液,其包含0.5重量%之四甲氢氧化铵,4重量%之1, 3-戊二胺,50重量%之二乙二醇,0.6重量%之氯化氢,以 及0.09重量%之乙二胺四醋酸,此清洗组合物之其余 部份以水补足。13.一种清洗组合物,其系用以清洗 微电子晶圆基体表面以移除金属污染,同时保持晶 圆基体表面之平滑性,该清洗组合物包含一种水溶 液,其具有硷性不含金属离子硷选自氢氧化铵或四 烷基氢氧化铵,及其混合物所构成的群组,其中烷 基是经取代烷基,或被羟基或烷氧基取代之烷基, 以及多羟基化合物选自具有Hansen氢键溶解度参数 大于7.5cal1/2cm-3/2的一种高亲水性烷二醇与近位烷 基多元醇所构成的群组, 其中存在于清洗组合物中之硷性不含金属离子硷, 其量占该清洗组合物重量0.05%至25%,该多羟基化合 物之量占该清洗组合物重量1%至50%,且存在于该水 溶液中之水占该清洗组合物重量40%至98.05%。14.根 据申请专利范围第13项之清洗组合物,其中硷性、 不含金属离子硷系以0.05%到10%重量比之量存在,而 该多羟基化合物系以5%到40%重量比之量存在。15. 根据申请专利范围第14项之清洗组合物,其中清洗 组合物另外包含金属螯合物,其量为该清洗组合物 重量之0.01%到5%。16.根据申请专利范围第13项之清 洗组合物,其中该硷性、不含金属离子硷是选自四 甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、三甲基-2-羟乙 基氢氧化铵,氢氧化铵,以及其混合物所构成的群 组。17.根据申请专利范围第13项之清洗组合物,其 中该硷性、不含金属离子硷是一种烷醇胺。18.根 据申请专利范围第13项之清洗组合物,其中该硷性 、不含金属离子硷是一种烷二铵。19.根据申请专 利范围第13项之清洗组合物,其中该多羟基化合物 是一种烷二醇,选自乙二醇,二乙二醇,三乙二醇,四 乙二醇,丙二醇,二丙二醇,三丙二醇,四丙二醇,2-甲 基-2,4-戊二醇,以及其混合物所构成的群组。20.根 据申请专利范围第13项之清洗组合物,其中该多羟 基化合物是一种近位烷多元醇,选自甘露醇,丁四 醇,清凉茶醇,木糖醇,阿东糖醇,甘油,以及其混合 物所构成的群组。21.根据申请专利范围第15项之 清洗组合物,其中该清洗组合物含有一种水溶液, 其包含0.07重量%之四甲基氢氧化铵,0.50重量%之氢 氧化铵溶液,36重量%之二乙二醇,以及0.09重量%之乙 二胺四醋酸,此清洗组合物之其余部份以水补足。 22.根据申请专利范围第15项之清洗组合物,其中该 清洗组合物含有一种水溶液,其包含0.07重量%之四 甲基氢氧化铵,2.5重量%之氢氧化铵,35重量%由乙二 醇与二乙二醇所构成群组中选出之一种二醇,0.08 重量%之冰醋酸,以及0.09重量%之乙二胺四醋酸,此 清洗组合物之其余部份以水补足。23.根据申请专 利范围第13项之清洗组合物,其中该清洗组合物含 有一种水溶液,其包含0.5重量%之四甲基氢氧化铵,4 重量%之1,3-戊二胺,50重量%之二乙二醇,1重量%之醋 酸,以及0.09重量%之乙二胺四醋酸,此清洗组合物之 其余部份以水补足。24.根据申请专利范围第13项 之清洗组合物,其中该清洗组合物含有一种水溶液 ,其包含0.5重量%之四甲基氢氧化铵,4重量%之1,3-戊 二胺,50重量%之二乙二醇,0.6重量%之氯化氢,以及0. 09重量%之乙二胺四醋酸,此清洗组合物之其余部份 以水补足。 |
