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发明名称 METHOD FOR FORMING METAL INTERCONNECTION OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20010108740(A) 申请公布日期 2001.12.08
申请号 KR20000029627 申请日期 2000.05.31
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 KIM, CHANG GYU
分类号 (IPC1-7):H01L21/28 主分类号 (IPC1-7):H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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