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发明名称 CMP ABRASIVE, LIQUID ADDITIVE FOR CMP ABRASIVE AND METHOD FOR POLISHING SUBSTRATE
摘要
申请公布号 KR20010108048(A) 申请公布日期 2001.12.07
申请号 KR1020017008089 申请日期 2001.06.23
申请人 发明人
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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