发明名称 |
SUBSTRATE WITH A REDUCED LIGHT-SCATTERING, ULTRAPHOBIC SURFACE AND A METHOD FOR THE PRODUCTION OF THE SAME |
摘要 |
Es wird ein Substrat mit einer gering lichtstreuenden, ultraphoben Oberfläche, ein Verfahren zur Herstellung des Substrates und seine Verwendung beschrieben. Das Substrat mit gering lichtstreuender ultraphober Oberfläche weist einen totalen Streulichtverlust≤7 %, bevorzugt≤3 %, besonders bevorzugt≤1 % und einen Randwinkel gegenüber Wasser von≥140 DEG , bevorzugt≥150 DEG auf. |
申请公布号 |
WO0192179(A1) |
申请公布日期 |
2001.12.06 |
申请号 |
WO2001EP05942 |
申请日期 |
2001.05.23 |
申请人 |
SUNYX SURFACE NANOTECHNOLOGIES GMBH;REIHS, KARSTEN;DUPARRE, ANGELA;NOTNI, GUNTHER |
发明人 |
REIHS, KARSTEN;DUPARRE, ANGELA;NOTNI, GUNTHER |
分类号 |
B32B9/00;B32B17/06;C03C17/38;C03C17/42;C04B41/89;C04B41/90;C23C26/00;(IPC1-7):C03C17/38;C04B41/81;C08J7/04;C09K3/18 |
主分类号 |
B32B9/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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