发明名称 SUBSTRATE WITH A REDUCED LIGHT-SCATTERING, ULTRAPHOBIC SURFACE AND A METHOD FOR THE PRODUCTION OF THE SAME
摘要 Es wird ein Substrat mit einer gering lichtstreuenden, ultraphoben Oberfläche, ein Verfahren zur Herstellung des Substrates und seine Verwendung beschrieben. Das Substrat mit gering lichtstreuender ultraphober Oberfläche weist einen totalen Streulichtverlust≤7 %, bevorzugt≤3 %, besonders bevorzugt≤1 % und einen Randwinkel gegenüber Wasser von≥140 DEG , bevorzugt≥150 DEG auf.
申请公布号 WO0192179(A1) 申请公布日期 2001.12.06
申请号 WO2001EP05942 申请日期 2001.05.23
申请人 SUNYX SURFACE NANOTECHNOLOGIES GMBH;REIHS, KARSTEN;DUPARRE, ANGELA;NOTNI, GUNTHER 发明人 REIHS, KARSTEN;DUPARRE, ANGELA;NOTNI, GUNTHER
分类号 B32B9/00;B32B17/06;C03C17/38;C03C17/42;C04B41/89;C04B41/90;C23C26/00;(IPC1-7):C03C17/38;C04B41/81;C08J7/04;C09K3/18 主分类号 B32B9/00
代理机构 代理人
主权项
地址