发明名称 | 成膜装置 | ||
摘要 | 一种成膜装置,备有:药液喷出喷嘴,对被处理衬底连续地喷出药液;气体喷出部,配置在该药液喷嘴下方,对从该喷嘴喷出的药液吹气,通过该气体的压力使药液的轨迹改变;药液回收部,相对于喷出的药液与所述气体喷出部相隔配置,回收由该喷出部使轨迹改变的药液;和移动部,使所述液体喷出喷嘴和所述被处理衬底相对移动。所述气体喷出部备有:激光振荡器,使激光振荡;和气体发生膜,由所述振荡器照射的激光加热气化产生所述气体。 | ||
申请公布号 | CN1325129A | 申请公布日期 | 2001.12.05 |
申请号 | CN01119694.7 | 申请日期 | 2001.03.26 |
申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 池上浩;早坂伸夫;伊藤信一;奥村胜弥 |
分类号 | H01L21/00 | 主分类号 | H01L21/00 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王以平 |
主权项 | 1.一种成膜装置,具有:对被处理衬底连续喷出药液的药液喷嘴;气体喷出部,其配置在该药液喷嘴的下方,对该喷嘴喷出的药液吹气,利用该气体压力改变药液轨迹;药液回收部,其相对于喷出的药液与所述气体喷出部相隔配置,回收利用该气体喷出部改变轨迹的药液;和使所述液体喷嘴和所述被处理衬底作相对移动的移动部,所述气体喷出部具有:使脉冲激光振荡的激光振荡器,和利用所述激光振荡器照射的激光加热气化产生所述气体的气体发生膜。 | ||
地址 | 日本神奈川县 |