发明名称 薄膜或层状物之双面具有表面结构之制造方法及装置
摘要 一种透明薄膜或透明层状物之制造方法及装置,该薄膜或层状物至少在一面具有一表面结构,及在另一面与该表面结构井然对齐地具有一结构或2维图案,用至少二旋转式滚筒及滚筒间之层状物涂布及一结构层之固化操作之。藉着第三个旋转式涂布滚筒,另一层状物可井然对齐地涂布至该结构层后面及可固化之。藉着合适之装置可很精确地设定该滚筒及滚筒压辊间隙。藉着一主要驱动装置控制所有滚筒之旋转。
申请公布号 TW466174 申请公布日期 2001.12.01
申请号 TW087107410 申请日期 1998.05.13
申请人 艾泰克磁学公司 发明人 凡克普里克斯;瑞郝德南威曲
分类号 B29D11/00 主分类号 B29D11/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种薄膜或层状物之至少一基底薄膜(9)面具有一表面结构及在另一面上具有与该表面结构井然对齐之结构或二维图案之制造方法,其藉着设有一圆周结构之第一滚筒(15)及第二滚筒(17)制成该表面结构,同样快但相反旋转方向地驱动该滚筒,及该薄膜或层状物系藉着黏贴一层热塑性聚合物至经由第一滚筒(15)进给至第二滚筒(17)之薄膜(9)所制成,于该方法中有安排于第二滚筒(17)下游之第三个滚筒(19),其系与第二滚筒(17)同样快及于相反方向中驱动,及同样地设有一结构或二维图案,且于该方法中另一热塑性、可辐射固化之聚合物材料层系涂布至该基底薄膜(9)之另一面,该基底薄膜(9)业已经由第二滚筒(17)进给至该第三滚筒(19)及已至少在一面上涂覆,及于该方法中辐射固化该基底薄膜(9)外部、另一面上之聚合物层。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中一薄膜或层状物在一面上表面结构上具有多数完全相同、平行、修长之凸透镜结构(L),特别为圆柱拱形之形成,及在另一面设有与该结构井然对齐之互相派定平行线或沟槽或隆起部份(B)。3.根据申请专利范围第1项之方法,其中一薄膜或层状物之表面结构具有多数平行之弓形镜片。4.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中一薄膜或层状物另一面上之表面结构具有多数特别为长方形形式之平行隆起部份(B)。5.根据申请专利范围第2项之方法,其中在一面上之凸透镜结构(L)及在另一面上之平行线、沟槽或隆起部份系及时相继制成,特别是紧接相继制成,及互相井然对齐。6.根据申请专利范围第2项之方法,其中镜片(L)及隆起部份(B)包括一可紫外线固化之聚合物,特别是一丙烯酸树脂。7.根据申请专利范围第6项之方法,其中特别是丙烯酸树脂之聚合物包含用于减少透明度之重量达百分之30之颜料。8.根据申请专利范围第4项之方法,其中该隆起部份(B)系设有光学不透明层,特别是所印刷之层状物。9.根据申请专利范围第8项之方法,其中该至少二,最好八之光学不透明层系印刷至该隆起部份上。10.根据申请专利范围第6项之方法,其中该隆起部份(B)之最大透明度百分之7。11.根据申请专利范围第1项之方法,其中选择该隆起部份(B)之宽度,以致该隆起部份最多涵盖该薄膜或层状物表面积之八成及使其变为不透明。12.一种薄膜或层状物之至少一基底薄膜(9)面具有一表面结构及在另一面上具有与该表面结构井然对齐之结构或二维图案之制造装置,其藉着设有一圆周结构之第一滚筒(15)及第二滚筒(17)及一涂布装置(34,35)与一辐射源(22)制成该表面结构,同样快但相反旋转方向地驱动该滚筒,该涂布装置(34,35)使一热塑性聚合物层涂布至经由第一滚筒(15)进给至第二滚筒(17)之基底薄膜(9),及该辐射源(22)固化穿过该薄膜(9),而该聚合物层支承靠住第二滚筒(17)之圆周,其中该第二滚筒(17)之下游为第三滚筒(19),该第三滚筒(19)系亦与第二滚筒(17)同样快及于相反方向中驱动,及同样地设有一结构或二维图案,且藉着一涂布装置(34,35)将另一热塑性、可辐射固化之聚合物材料层涂布至该薄膜(9)之另一面,该薄膜(9)业已经由第二滚筒(17)进给至该第三滚筒(19)及已至少在一面上涂覆,及藉着一辐射源(22)固化该基底薄膜(9)外部、另一面上之聚合物层。13.根据申请专利范围第12项之装置,其中一薄膜或层状物(80)在一面之表面结构上具有多数完全相同、平行、修长之凸透镜结构(U),特别为圆柱拱形之形式,及在另一面设有与该结构井然对齐之互相派定平行线或沟槽或隆起部份(B)。14.根据申请专利范围第12项之装置,其中该第二滚筒(17)之表面结构具有多数完全相同、平行之弓形沟槽。15.根据申请专利范围第12或14项之装置,其中该第一滚筒(15)具有一平滑表面。16.根据申请专利范围第12项之装置,其中该第三滚筒(19)之表面结构具有多数特别为长方形形式之平行沟槽。17.根据申请专利范围第15项之装置,其中在该第一滚筒(15)处有一接触滚筒(14),藉着滚筒(14)使制成一薄膜或层状物之基底薄膜(9)进给至该第一滚筒(15)之圆周。18.根据申请专利范围第12项之装置,其中该第一滚筒(15)用作一主要驱动滚筒,用于控制装置该第二及第三滚筒(17及19)之旋转速度。19.根据申请专利范围第12项之装置,其中第二滚筒(17)系设计成可藉着一调整装置(50,70)关于该第一及第三滚筒(15及19)轴向地调整,特别是藉着一偏心调整装置。20.根据申请专利范围第19项之装置,其中该调整装置实质上包含一连接至该可轴向调整滚筒及接触一偏心轴(37,38)(第四图)之推力元件(43)。21.根据申请专利范围第12项之装置,其中非个别可轴向调整之滚筒(15,19)系藉着一回转离开或拉开装置(第五图)安装,用于装入该基底薄膜(9)。22.根据申请专利范围第12项之装置,其中该涂布装置系具有至少一计量装置之涂料器(34,35),及提供一举昇装置用于装入该载送薄膜(9)。23.根据申请专利范围第21项之装置,其中该回转机构包含一偏心架设机制。24.根据申请专利范围第12项之装置,其中有支承机制(90),其中该第一至第三滚筒(15,17,19)之二滚筒可在轴向地平行各个其他滚筒中关于其他滚筒设定。25.根据申请专利范围第12项之装置,其中为驱动三滚筒(15,17,19)之每一个系提供具有一介入齿轮传动装置及一电子同步控制装置之驱动马达(15A,17A,19A)。26.根据申请专利范围第12项之装置,其中该涂布装置系一具有遮光装置(79)外壳之屏幕涂料器(34,35),该遮光装置(79)包含由聚四氟乙烯制成之元件。27.根据申请专利范围第12项之装置,其中提供一用于第一滚筒(15)及第二滚筒(17)间之第一压辊间隙(16)设定装置(50,70),及用于第二及第三滚筒(17及19)间之第二压辊间隙(18)之另一压辊间隙设定装置(50,70)。28.根据申请专利范围第12项之装置,其中具有补偿滚筒控制装置(8)而用于该基底薄膜(9)之一开卷站(5)系设在该薄膜或层状物(25)之生产装置(11)上游。29.根据申请专利范围第27项之装置,其中具有补偿滚筒控制装置(8)之另一驱动站(23)系于该薄膜或层状物(25)之运转方向中设在该薄膜或层状物(25)之生产装置(11)下游。30.根据申请专利范围第27或28项之装置,其中在该薄膜或层状物(25)之另一面印刷至该隆起部份(B)上之一印刷站(26)系于该薄膜或层状物(25)之运转方向中设在另一驱动站(23)下游。31.根据申请专利范围第27或28项之装置,其中该薄膜或层状物(25)之黏接剂涂布站(28)系于运转方向中设在该印刷站(26)下游。32.根据申请专利范围第31项之装置,其中用于层叠一屏蔽薄膜至该薄膜或层状物(25)之黏着剂层上之层叠站(29)系于运转方向中安排在该黏着站(28)下游。33.根据申请专利范围第30项之装置,其中该薄膜或层状物(25)之卷绕站(20)系设在该印刷站(26)或黏着站(28)或层叠站(29)下游。34.根据申请专利范围第31项之装置,其中该薄膜或层状物(25)之卷绕站(20)系设在该印刷站(26)或黏着站(28)或层叠站(29)下游。35.根据申请专利范围第32项之装置,其中该薄膜或层状物(25)之卷绕站(20)系设在该印刷站(26)或黏着站(28)或层叠站(29)下游。图式简单说明:第一图显示该装置之图样描绘。第二图显示可装入第一图剖面A-A'之一额外单元。第三图以一放大比例显示该装置之三滚筒配置。第四图显示各滚筒轴向调整之一调整装置。第五图显示该非可轴向调整滚筒之拉开装置。第六图于二平面显示该滚筒调整装置之起重螺丝装置。第七图显示该压辊间隙之一偏心调整装置。第八图显示一部份具有圆柱拱形镜片之抗拷贝薄膜及具有不透明层之指派条棒。
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